[发明专利]约瑟夫逊结谐振器的选择性化学频率修改在审
| 申请号: | 202180039067.4 | 申请日: | 2021-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN115669286A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
| 发明(设计)人: | E.莱万多夫斯基;姚正邦;E.张;B.韦伯 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
| 主分类号: | H10N60/01 | 分类号: | H10N60/01;H10N60/12;H10N60/00;G06N10/40 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈金林 |
| 地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 约瑟夫 谐振器 选择性 化学 频率 修改 | ||
1.一种方法,包括:
经由等离子体处理来化学改变约瑟夫逊结谐振器的约瑟夫逊结;以及
基于所述等离子体处理的特性选择性地调谐所述约瑟夫逊结谐振器的操作频率。
2.根据前述权利要求所述的方法,其中所述特性是选自包括以下各项的组的至少一个成员:所述等离子体处理的处理时间、所述等离子体处理的化学成分、通过所述等离子体处理递送到所述约瑟夫逊结的能量的量、以及所述等离子体处理所采用的气体的分压。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述等离子体处理使所述约瑟夫逊结暴露于一系列等离子体,并且其中所述等离子体处理改变所述约瑟夫逊结的电阻。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括:
经由等离子体束将所述等离子体处理定位到所述约瑟夫逊结的附近。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括:
将掩模层沉积在所述约瑟夫逊结谐振器上,其中所述掩模层包括与所述约瑟夫逊结的位置相关的孔,并且其中所述掩模层保护第二约瑟夫逊结免于所述等离子体处理。
6.根据前述权利要求所述的方法,其中,所述掩模层包括面向所述约瑟夫逊结的第一表面和面向所述等离子体处理的第二表面,其中,所述第一表面的特征在于吸收所述等离子体处理的等离子体物种的化学成分,并且其中,所述第二表面的特征在于对所述等离子体处理是惰性的另一化学成分。
7.根据前述两个权利要求中任一项所述的方法,还包括:
在所述掩模层中的所述孔的周边处图案化电极,以及
经由所述电极的操作控制所述等离子体处理的反应性物种跨所述掩模层的迁移。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括:
将惰性衬垫压缩到所述约瑟夫逊结谐振器上,其中所述惰性衬垫包括与所述约瑟夫逊结的位置相关的孔,并且其中所述惰性衬垫密封了来自所述等离子体处理的邻近所述约瑟夫逊结的第二约瑟夫逊结。
9.一种方法,包括:
经由等离子体处理来化学改变约瑟夫逊结谐振器的约瑟夫逊结;以及
基于所述等离子体处理的特性调节所述约瑟夫逊结的电阻。
10.根据前述权利要求所述的方法,其中所述等离子体处理使所述约瑟夫逊结暴露于一系列等离子体,其中所述等离子体处理改变所述约瑟夫逊结的电阻,并且其中所述特性是选自包括以下各项的组的至少一个成员:所述等离子体处理的处理时间、所述等离子体处理的化学成分、通过所述等离子体处理递送到所述约瑟夫逊结的能量的量、以及所述等离子体处理所采用的气体的分压。
11.根据前述两个权利要求中任一项所述的方法,还包括:
经由等离子体束将所述等离子体处理定位到所述约瑟夫逊结的附近。
12.根据前述三个权利要求中任一项所述的方法,还包括:
将掩模层沉积在所述约瑟夫逊结谐振器上,其中所述掩模层包括与所述约瑟夫逊结的位置相关的孔,并且其中所述掩模层保护所述约瑟夫逊结谐振器的一部分免于所述等离子体处理。
13.根据前述权利要求所述的方法,其中所述掩模层包括面向所述约瑟夫逊结谐振器的第一表面和面向所述等离子体处理的第二表面,其中,所述第一表面的特征在于吸收所述等离子体处理的等离子体物种的化学成分,并且其中,所述第二表面的特征在于对所述等离子体处理是惰性的另一化学成分。
14.根据前述五个权利要求中任一项所述的方法,还包括:
将惰性衬垫压缩到所述约瑟夫逊结谐振器上,其中所述惰性衬垫包括与所述约瑟夫逊结的位置相关的孔,并且其中所述惰性衬垫密封了来自所述等离子体处理的邻近所述约瑟夫逊结的第二约瑟夫逊结。
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