[发明专利]具有改进的附着性的间隔件在审

专利信息
申请号: 202180019329.0 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN115176064A 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: D·詹森;W·施赖贝尔;F·卡雷 申请(专利权)人: 法国圣戈班玻璃厂
主分类号: E06B3/663 分类号: E06B3/663;B32B27/32;B32B15/09;B32B15/085;B32B15/20;B32B9/00;B32B27/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张华;初明明
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 改进 附着 间隔
【权利要求书】:

1.用于中空玻璃单元的间隔件(I),其至少包括

- 聚合物中空型材(1),其包括

- 第一侧壁(2.1)和与其平行布置的第二侧壁(2.2),将侧壁(2.1,2.2)彼此连接的装配玻璃内部空间壁(3);

- 外壁(5),其基本上平行于装配玻璃内部空间壁(3)布置并将侧壁(2.1,2.2)彼此连接;

- 空腔(5),其由侧壁(2.1、2.2)、装配玻璃内部空间壁(3)和外壁(5)围成,

- 在聚合物中空体(1)的第一侧壁(2.1)、外壁(5)和第二侧壁(2.2)上的湿气屏障(30),其中所述湿气屏障(30)至少包括

- 具有屏障功能的多层体系(33),其包括至少一个聚合物层(35)和无机屏障层(34),

- 金属或陶瓷的外置的附着层(31),其中所述附着层(31)的厚度小于100nm,

- 布置在附着层(31)和多层体系(33)之间的连接层(32),其包含选自取向聚丙烯、取向聚对苯二甲酸乙二醇酯、双轴取向聚丙烯和双轴取向聚对苯二甲酸乙二酯的聚合物,其中所述连接层(32)与附着层(31)直接相邻。

2.根据权利要求1所述的间隔件(I),其中,所述附着层(31)是陶瓷附着层并且包含SiOx或由SiOx组成。

3.根据权利要求1所述的间隔件(I),其中,所述附着层(31)是金属附着层并且包含或由铝、钛、镍、铬、铁、它们的合金和/或它们的氧化物组成。

4.根据权利要求3所述的间隔件(I),其中,所述附着层(31)基本上由金属氧化物组成,优选由氧化铬或氧化钛组成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的间隔件(I),其中,所述连接层(32)的厚度为5μm至35μm,优选厚度为8μm至30μm,特别优选厚度为12μm至25μm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的间隔件(I),其中,所述外置的附着层(31)借助于化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)直接施加在连接层(32)上。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的间隔件(I),其中,所述附着层(31)的厚度为5nm至70nm,优选10nm至50nm,特别优选20nm至30nm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的间隔件(I),其中,所述具有屏障功能的多层体系(33)包括至少两个聚合物层(35)和至少两个无机屏障层(34),优选包括三个聚合物层(35)和三个无机屏障层(34)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的间隔件(I),其中,所述具有屏障功能的多层体系(33)包括恰好两个或三个聚合物层(35)和三个无机屏障层(34)。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的间隔件(I),其中,所述具有屏障功能的多层体系(33)包括至少一个厚度为1μm至8μm,优选2μm至6μm的内部粘合层。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的间隔件(I),其中,所述具有屏障功能的多层体系(33)仅包括由SiOx和/或SiN制成的陶瓷屏障层作为无机屏障层(34)。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的间隔件(I),其中,所述具有屏障功能的多层体系(33)仅包括金属屏障层(34),优选铝层,作为无机屏障层(34)。

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