[实用新型]一种CVD镀膜设备的真空排气装置

权利要求书

1.一种CVD镀膜设备的真空排气装置，包括底盘(1)和活动底座(2)，其特征在于：所述底盘(1)的内部开设有与活动底座(2)相匹配的活动槽(13)，所述活动底座(2)活动套接于底盘(1)的内侧，且活动底座(2)与底盘(1)之间固定连接有均匀分布的弹簧(11)和阻尼套(12)，所述活动底座(2)的顶部固定安装有控制阀(3)和套接底座(8)，所述套接底座(8)的内部套装有负压罐(6)，所述负压罐(6)的外部套接有套接环(5)，所述套接环(5)的外部固定安装有控制器(4)。

2.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜设备的真空排气装置，其特征在于：所述活动底座(2)的外部固定安装有挡板，所述活动槽(13)与挡板之间相互匹配，所述底盘(1)采用和活动底座(2)均采用金属制成。

3.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜设备的真空排气装置，其特征在于：所述控制阀(3)和负压罐(6)的外部均固定连接有连通管，且控制阀(3)和负压罐(6)外部的连通管相互对应，所述控制阀(3)的连通管外部螺纹套接有连通套头(14)。

4.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜设备的真空排气装置，其特征在于：所述负压罐(6)的底部设置有排污阀口(15)，所述排污阀口(15)的外部固定套装有卡板(7)，所述卡板(7)的外部螺纹套接有紧固螺栓(10)。

5.根据权利要求4所述的一种CVD镀膜设备的真空排气装置，其特征在于：所述套接底座(8)的外部开设有与排污阀口(15)相匹配的开口，且套接底座(8)采用金属制成，所述套接底座(8)的外部设置有与紧固螺栓(10)相匹配的螺孔。

6.根据权利要求1所述的一种CVD镀膜设备的真空排气装置，其特征在于：所述底盘(1)的底部固定安装有均匀分布的万向轮(9)，所述控制器(4)与控制阀(3)之间电性连接。