[实用新型]一种硅反应装置

权利要求书

1.一种硅反应装置，其特征在于，包括隔板、第一腔室、第二腔室、线圈、多个进气管道以及喷嘴，所述隔板设置在所述第一腔室以及所述第二腔室之间，所述线圈以及多个所述进气管道均设置在所述第一腔室的内部，多个所述进气管道的第一端连接至所述喷嘴，所述喷嘴与所述第二腔室连通，多个所述进气管道在所述第一腔室中以所述喷嘴为中心均匀布置。

2.根据权利要求1所述的硅反应装置，其特征在于，所述线圈位于多个所述进气管道的上方。

3.根据权利要求2所述的硅反应装置，其特征在于，所述进气管道由石英制成。

4.根据权利要求2所述的硅反应装置，其特征在于，所述进气管道由金属制成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的硅反应装置，其特征在于，多个所述进气管道的第二端通过流量控制器连通至进气装置。

6.根据权利要求5所述的硅反应装置，其特征在于，所述喷嘴设置于所述隔板的中央。

7.根据权利要求6所述的硅反应装置，其特征在于，所述喷嘴的第二端的侧部均匀设置有第一进气孔，所述喷嘴的第二端的底部均匀设置有第二进气孔。

8.根据权利要求1所述的硅反应装置，其特征在于，所述硅反应装置还包括抽气部，所述抽气部的底部设置有抽气孔，所述第二腔室的侧壁设置有出气孔，所述出气孔与所述抽气孔连通。