[实用新型]耐高温消光光学膜有效
| 申请号： | 202122278985.2 | 申请日： | 2021-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN216118071U | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 王丽荣;石澎;卢志坚 | 申请（专利权）人： | 中山火炬职业技术学院;中山晶通光学技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 | 代理人： | 何金芳 |
| 地址： | 528400 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 耐高温 光学 | ||
1.耐高温消光光学膜，应用在光学零件上，其特征在于，包括涂覆在光学零件表面上的膜层组(10)，所述膜层组(10)包括自光学零件表面往外依次设置的粘合膜层(2)、消光膜层(3)和减反膜层(4)，所述消光膜层(3)为变价态金属氧化物层。
2.根据权利要求1所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述消光膜层(3)为铬氧化物层或铌氧化物层。
3.根据权利要求1或2所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述消光膜层(3)的厚度为：1500nm-1850nm。
4.根据权利要求3所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述消光膜层(3)的厚度为1650nm或1735nm。
5.根据权利要求1所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述粘合膜层(2)为二氧化硅层。
6.根据权利要求1或5所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述粘合膜层(2)的厚度为：5nm-30nm。
7.根据权利要求6所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述粘合膜层(2)的厚度为17nm或23nm或27nm。
8.根据权利要求1所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述减反膜层(4)为氟化镁层。
9.根据权利要求1或8所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述减反膜层(4)的厚度为：75nm-120nm。
10.根据权利要求9所述的耐高温消光光学膜，其特征在于，所述减反膜层(4)的厚度为86nm或104nm或113nm。
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