[实用新型]一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具有效

专利信息
申请号: 202122087493.5 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN215507430U 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 张立祥;王林根;赵凯 申请(专利权)人: 苏州众芯联电子材料有限公司
主分类号: B05B13/02 分类号: B05B13/02
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 王春丽
地址: 215000 江苏省苏州市吴中区甪直镇*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 静电 吸盘 侧面 喷涂 旋转 夹具
【说明书】:

实用新型公开了一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具,包括工作平台、位于所述工作平台下面的电机、卡爪以及宽度调整机构;所述电机转动轴贯穿工作平台且带动所述工作平台上端面的旋转平台转动,所述旋转平台上设置有三爪卡盘,每个所述卡爪上均竖直设置有一夹持立柱,通过所述宽度调整机构调整每个卡爪上夹持立柱的位置,所述夹持立柱上设置有用于支撑静电吸盘的支撑块,且所述支撑块通过高度调整机构调整在夹持立柱上的位置,所述支撑立柱顶部设置有旋转卡扣,且所述旋转卡扣与支撑块位置相对应。本实用新型提高侧面喷涂效率,适用于不同尺寸的静电吸盘,有效避免在静电吸盘在旋转过程中飞出而造成过安全问题。

技术领域

本实用新型涉及静电吸盘喷涂技术领域,尤其涉及一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具。

背景技术

静电吸盘是广泛用于芯片加工过程中的一种工具,其主要作用之一是在加工过程中将晶圆用静电吸附住,防止其发生移动。由于芯片的加工有很多步骤是在等离子体环境中进行的(例如干刻、离子注入、化学气相沉积、物理气相沉积等),而等离子体有很强的侵蚀性,因此在静电吸盘的金属基体上往往需要通过等离子喷涂的方式覆上一层化学性质稳定的陶瓷涂层。静电吸盘吸附面和侧面都需要陶瓷涂层。在喷涂吸附面时,将金属基体平放于工作台,让等离子喷涂设备以一定的速率扫过整个吸附面即可形成厚度均匀的陶瓷涂层。但由于静电吸盘是圆形,上述的扫描式喷涂不能在侧面形成厚度均匀的涂层。

为在静电吸盘侧面通过等离子喷涂覆上厚度均匀的陶瓷涂层,可以固定静电吸盘,每隔一定时间调整等离子喷涂设备喷嘴的位置,从多个角度进行喷涂,或者固定等离子喷涂设备喷嘴的位置,每隔一定时间调整静电吸盘的角度,从而确保整个静电吸盘的侧面都可形成陶瓷涂层,再通过后续的机加工将侧面的陶瓷涂层厚度研磨至均匀的厚度。但这个方法效率低,因为调整喷嘴或静电吸盘的位置都需要暂停等离子体设备以防止操作人员被烧伤。另外,也增加了后续机加工的负担。因此,需要提供一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具解决上述问题。

实用新型内容

为克服上述缺点,本实用新型的目的在于提供一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具,在静电吸盘旋转的过程中对其侧面进行喷涂,提高喷涂效率,适用于不同尺寸的静电吸盘,有效避免在静电吸盘在旋转过程中飞出而造成过安全问题。

为了达到以上目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于静电吸盘侧面喷涂的旋转夹具,包括工作平台、位于所述工作平台下面的电机、卡爪以及宽度调整机构;所述电机转动轴贯穿工作平台且带动所述工作平台上端面的旋转平台转动,所述旋转平台上设置有三爪卡盘,每个所述卡爪上均竖直设置有一夹持立柱,通过所述宽度调整机构调整每个卡爪上夹持立柱的位置,所述夹持立柱上设置有用于支撑静电吸盘的支撑块,且所述支撑块通过高度调整机构调整在夹持立柱上的位置,所述夹持立柱顶部设置有旋转卡扣,且所述旋转卡扣与支撑块位置相对应。

优选地,所述夹持立柱呈L形,所述宽度调整机构位于夹持立柱的L形短边上,所述宽度调整机构包括螺丝一、位于夹持立柱L形短边上的滑槽以及固定于所述滑槽内的导向滑块,所述导向滑块远离滑槽的一端位于所述卡爪上的通槽内,所述导向滑块与卡爪上的通槽通过螺丝一锁附。

优选地,所述高度调整机构包括竖直设置在夹持立柱上的条形槽,所述支撑块通过螺丝二可调整的固定在所述夹持立柱上。

优选地,所述旋转卡扣通过轴承座与夹持立柱活动连接。

优选地,所述卡爪卡盘中间设置有一升降机构,所述升降机构具体为气缸,且所述升降气缸外部设置有一防护罩。

优选地,所述工作台下端面设置有工作箱,且所述电机位于所述工作箱内。

本实用新型的有益效果:

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