[实用新型]硅片负压顶升装置及硅片检测分选设备

权利要求书

1.一种硅片负压顶升装置，其特征在于，所述硅片负压顶升装置包括：负压吸附机构以及顶升机构；

所述负压吸附机构包括：吸盘以及负压发生组件，所述吸盘的工作面上开设有吸孔和/或吸槽，所述负压发生组件与所述吸盘相连接，并能够在所述吸孔和/或吸槽处产生负压；

所述顶升机构设置于所述负压吸附机构下方，其包括：驱动单元以及顶升组件，所述驱动单元与所述顶升组件传动连接，所述顶升组件与所述负压吸附机构传动连接，并能够带动所述负压吸附机构进行升降运动。

2.根据权利要求1所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述负压发生组件包括负压发生腔，其安装于所述吸盘的下方，所述吸孔和/或吸槽与所述负压发生腔相连通。

3.根据权利要求1所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述负压吸附机构还包括底座，所述负压吸附机构安装于所述底座上，所述顶升组件与所述底座的底部传动连接。

4.根据权利要求3所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述硅片负压顶升装置还包括导向机构，所述导向机构包括两根导向柱，两根导向柱分布于所述顶升机构的两侧，且所述底座通过导向套沿两侧的导向柱进行升降运动。

5.根据权利要求1所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述驱动单元为一水平设置的电机，所述顶升组件包括：连杆以及偏心轮，所述驱动单元的输出端与所述偏心轮相连接，所述连杆一端与所述偏心轮相连接，另一端与所述负压吸附机构相连接。

6.根据权利要求1所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述硅片负压顶升装置还包括输送机构，所述输送机构包括输送带，所述输送带与所述工作面共面或者略高于所述工作面。

7.根据权利要求6所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述输送带分布于所述吸盘的两侧。

8.根据权利要求6或7所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述硅片负压顶升装置还包括旋转电机，所述旋转电机安装于所述负压吸附机构的底座中，并带动所述输送带进行运动。

9.根据权利要求8所述的硅片负压顶升装置，其特征在于，所述输送机构还包括：主动轮和多个从动轮，所述主动轮套设于所述旋转电机的输出轴上，其两侧分布有所述从动轮，所述输送带依次绕过所述主动轮和多个从动轮，并由多个从动轮张紧。

10.一种硅片检测分选设备，其特征在于，所述硅片检测分选设备包括如权利要求1至9任一项所述的硅片负压顶升装置。