[实用新型]用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备

说明书

本实用新型公开了一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，该设备能够用于对硅铝靶材管表面进行激光加工处理，用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备包括：支撑座，沿底座的一侧设有第一滑轨；固定件，两个固定件的上端分别相对设有安装部；第二滑轨，形成为条状且与所述第一滑轨间隔开平行相对设置；激光加工单元，设在第二滑轨上且可沿所述第二滑轨滑动和/或锁定，硅铝靶材水温控制器，冷却管道和排水管道。该用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备具有结构完整、产品装卸简单、冷却效果好等优点。

技术领域

本实用新型属于硅铝靶材再制造技术领域，尤其涉及一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备。

背景技术

硅铝靶材是真空磁控溅射镀膜工艺中一种常用的耗材，旋转硅铝靶材通常由中空的圆柱形衬管以及其外周表面的打底层和硅铝层组成，打底层通常设在衬管的表面，硅铝层设在打底层表面，为了使硅铝层的磁场强度达到真空磁控溅射镀膜的磁场要求，一般可采用等离子喷涂工艺制备厚度约为6mm-9mm的硅铝层。

硅铝层在使用过程中作为耗材被不断地消耗，在硅铝层的厚度剩下约4mm左右时，一般会出现靶材表面的污染，即硅铝层表面形成了非导电的化合物或者导电很差的化合物之后，除了放电电压及沉积速率变化之外，还会因为靶面状况的动态变化引起膜成分及结构的变化，影响了形成薄膜的质量。生产过程中，一般将消耗到硅铝层厚度约4mm左右时，旋转硅铝靶材就会报废不再使用。因此，旋转硅铝靶材作为一次性使用的耗材，其使用成本很高。

另外，有些生产企业也试图对使用过且表面无裂纹缺陷的旋转硅铝靶材进行再制造，在残留的硅铝层表面进行激光表面处理，然后在经过激光表面处理后的硅铝靶材表面继续热喷涂硅铝粉末进行再制造加工。但是现有技术中对硅铝靶材的激光表面处理设备设备结构简陋，产品装夹过程复杂，加工效率低，加工后靶材受激光热辐射影响导致基体变形，硅铝层表面开裂脱落等问题。因此，开发出一种用于硅铝靶材再制造的表面处理的结构完整、产品装卸简单、加工效率高、冷却效果好、加工后产品不易变形和开裂的激光表面处理设备已成为本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

有鉴于此，本实用新型提供一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，在对硅铝靶材残留有硅铝层的表面进行激光加工处理时，能够将硅铝靶材管的两端安装在固定件两端的转动轴上，装卸快捷，并通过转动轴带动硅铝靶材管进行旋转便于激光加工头对其表面进行加工，在加工过程中，可通过冷却管道和排水管道向硅铝靶材管内注入循环冷却水，可减少激光加工过程中的高热量对硅铝靶材管的影响，能够防止硅铝靶材管表面温度过高而变形和硅铝层表面开裂现象的发生，从而可提高硅铝层表面激光热处理后的质量。