[实用新型]用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备

权利要求书

1.一种用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，能够用于对硅铝靶材管表面进行激光加工处理，其特征在于，所述用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备包括：

支撑座，所述支撑座包括底座和支撑件，所述底座设在水平面，所述底座的一侧设有第一滑轨，所述支撑件的下端设在所述底座另一侧且与所述第一滑轨平行，所述支撑件的上端朝竖直方向向上延伸；

固定件，所述固定件的数量为两个，两个所述固定件沿所述第一滑轨间隔开平行设置，至少一个所述固定件可沿所述第一滑轨滑动和/或锁定，两个所述固定件的上端分别相对设有安装部，每个所述安装部设有轴向与所述第一滑轨长度方向相同的转动轴以将所述硅铝靶材管的两端分别安装在所述转动轴，所述转动轴能够绕其轴带动所述硅铝靶材管旋转，依次穿过所述固定件和与之相连的所述转动轴内部设有冷却管通道；

第二滑轨，所述第二滑轨设在所述支撑件朝向所述固定件的一侧，所述第二滑轨与所述第一滑轨间隔开平行设置，所述第二滑轨的高度高于所述安装部的高度；

激光加工单元，所述激光加工单元设在所述第二滑轨上且可沿所述第二滑轨滑动和/或锁定，所述激光加工单元的出光口朝向下且位于所述硅铝靶材管的正上方；

激光器，所述激光器与所述激光加工单元光纤连接；

柱塞，所述柱塞的数量为两个，所述柱塞分别设在所述硅铝靶材管的两端以堵住硅铝靶材管的两端，所述柱塞上设有通孔以使硅铝靶材管内部与外界连通；

硅铝靶材水温控制器，所述硅铝靶材水温控制器内设有温度控制器，能够将所述硅铝靶材水温控制器内的水的温度控制在20℃～30℃之间；

冷却管道，所述冷却管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述冷却管道的另一端能够依次穿过所述底座一侧的所述固定件和所述转动轴内部的所述冷却管通和所述硅铝靶材管一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管内以向所述硅铝靶材管内注水；

排水管道，所述排水管道的一端与所述硅铝靶材水温控制器相连通，所述排水管道的另一端能够依次穿过所述底座另一侧的所述固定件和所述转动轴的冷却管通道和所述硅铝靶材管另一端的所述通孔伸入所述硅铝靶材管另一端以将所述硅铝靶材管内的水抽出。

2.根据权利要求1所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

顶针，所述顶针形成为柱形，所述顶针的一端形成为尖部，所述顶针的另一端设在所述排水管道所在的冷却管通道外，所述顶针的尖部穿过所述冷却管通道伸入到所述硅铝靶材管内，所述顶针朝向下方的一侧设有延其轴向贯通的安装通道，所述排水管道穿过所述安装通道伸入到硅铝靶材管内。

3.根据权利要求2所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的一端端口形成为封闭状态，且端口延伸至所述硅铝靶材管内的另一端，所述端口设有中心孔，所述顶针的尖部伸入所述中心孔配合以支撑所述冷却管道呈水平方向放置，所述冷却管道伸入所述硅铝靶材管内的部分延其长度方向在管壁周向设有多个间隔开分布的出水口。

4.根据权利要求3所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，所述固定件形成为卡座，两个所述转动轴分别形成为主动卡盘和从动卡盘，所述卡盘上设有可活动的三个卡爪。

5.根据权利要求4所述的用于旋转硅铝靶材再制造的激光表面处理设备，其特征在于，还包括：

第一安装环，所述第一安装环形成为环形，所述第一安装环插接在顶针一端外壁和冷却管通道朝向硅铝靶材管一端的内壁之间；

第二安装环，所述第二安装环形成为环形，所述第二安装环的一端插接在顶针另一端的外壁与所述冷却管通道的另一端的内壁之间，所述第二安装环的另一端形成为延其周向向外延伸的凸起部，所述凸起部位于所述冷却管通道的端口外直抵所述固定件的一侧表面。