[实用新型]一种二氧化碳激光器选支镜

说明书

本实用新型公开一种二氧化碳激光器选支镜，属于激光打标技术领域。所述二氧化碳激光器选支镜包括CVD硒化锌制成的基片以及所述基片的双面镀膜层；靠近谐振腔一面镀制选支膜，靠近外光路一面镀制增透膜，用来减少背反射的影响，侧边抛光，结合金属化工艺，提高镜片的散热性能和安装的气密性；所述选支膜采用多层结构，交替镀制锗和硒化锌，通过调整膜层厚度和层数实现选支功能；所述选支镜非光学区域，即侧边和薄膜外沿，采用金属化工艺制作密封材料的焊接层；所述选支镜的光学膜区域和金属化区域之间设有非镀膜区，即死区，保证金属焊接密封时密封焊料不会进入光学膜区域影响膜层。

技术领域

本实用新型涉及激光打标技术领域，特别涉及一种二氧化碳激光器选支镜。

背景技术

随着激光技术的迅速发展，二氧化碳激光器被应用于工业加工、可控核聚变、激光制导、激光探测、激光武器、激光清洗、激光打标等方面；二氧化碳激光的主要输出波长为9.3μm、9.6μm、10.2μm以及10.6μm，激光的输出波长可以由激光谐振腔的输出镜决定，这种输出镜被称为选支镜。

二氧化碳激光由于激光器成本低，被广泛应用于激光打标领域，但是未经选支的二氧化碳激光优势输出为10.6μm的激光，这一波长较长，不易被塑料材质吸收，因此在覆膜表面打标时会造成覆膜起泡，导致无法清晰打标，此时需要选支镜将激光谐振腔内的优势波长改为10.2μm，而做一些精细图案打标或雕刻时，由于衍射和干涉效应，导致无法清晰打标，出现标刻图案模糊等问题，此时需要选支镜将激光谐振腔内的优势波长改为9.6或9.3μm。

若需要输出10.2μm的激光，需要抑制其余波长的增益，其中9.6μm的能级跃迁概率比10.2μm更低，因此不需要额外抑制此波长；当10.2μm的反射率比10.6μm和9.3μm高10％以上时，能将更多的10.2μm波长的激光反射回谐振腔内，从而更多地激励工作介质提高此波段的增益，同时抑制了10.6μm和9.3μm的谐振增益，达到选支的效果。

若需要输出9.6μm的激光，需要抑制其余波长的增益，当9.6μm的反射率比10.6μm和9.3μm高50％以上，且比10.2μm高30％以上时，能将更多的9.6μm波长的激光反射回谐振腔内，从而更多地激励工作介质提高此波段的增益，同时抑制了其余三个波长的谐振增益，达到选支的效果。

若需要输出9.3μm的激光，需要抑制其余波长的增益，其中10.2μm和9.6μm的能级跃迁概率比9.3μm更低，因此不需要额外抑制这两个波长，在选支起振阶段就会被抑制；当9.3μm的反射率比10.6μm高5％以上时，能将更多的9.3μm波长的激光反射回谐振腔内，从而更多地激励工作介质提高此波段的增益，同时抑制了10.6μm的谐振增益，达到选支的效果。

目前市场上的选支镜产品对其余波长的抑制不大，起振后仍有部分其余波长的激光混合输出。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种二氧化碳激光器选支镜，以解决目前市场上的选支镜产品对其余波长的抑制不大，起振后仍有部分其余波长的激光混合输出的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种二氧化碳激光器选支镜，包括CVD硒化锌制成的基片以及所述基片的双面镀膜层；

靠近谐振腔一面镀制选支膜，靠近外光路一面镀制增透膜，用来减少背反射的影响，侧边抛光，结合金属化工艺，提高镜片的散热性能和安装的气密性。

可选的，所述选支膜采用多层结构，交替镀制锗和硒化锌，通过调整膜层厚度和层数实现选支功能。

可选的，所述增透膜镀制于大气窗口面，从而降低背面反射对谐振腔以及镜片本身的损伤。

可选的，所述选支镜非光学区域，即侧边和薄膜外沿，采用金属化工艺制作密封材料的焊接层。

可选的，所述焊接层层叠镀制钛、铂和金。