[发明专利]一种含双阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用在审
| 申请号: | 202111678168.4 | 申请日: | 2021-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN114230604A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
| 发明(设计)人: | 张树;吴一弦;刘相伟;高正明;林金汉 | 申请(专利权)人: | 常州汉韦聚合物有限公司 |
| 主分类号: | C07F9/00 | 分类号: | C07F9/00;B01J31/22;C08F210/16;C08F210/14;C08F4/685 |
| 代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 孙向民;廉莉莉 |
| 地址: | 213017 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 阴离子 过渡 金属 配合 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种含双阴离子配体过渡金属配合物,其特征在于,该含双阴离子配体过渡金属配合物的通式为:L1L2(V=O)X,其中,L1为氮负离子配体,L2为氧负离子配体,X为卤素和/或烷氧基;
优选地,所述含双阴离子配体过渡金属配合物选自式V1、式V2和式V3中的至少一种;其中,式V1、式V2和式V3中的R1、R2、R3、R9、R10和R11各自独立地选自C1~C15的烷基、C3~C15环烷基、C6~C30的芳香基和C7~C30芳烷基中的至少一种;式V1、式V2和式V3中的R4、R5、R6、R7和R8各自独立地选自氢、卤素、C1~C10的烷基和C3~C10环烷基中的至少一种;式V1、式V2和式V3中的X为卤素和/或C1~C10的烷氧基;式V2和式V3中的Z为氧和/或硫;
2.根据权利要求1所述的含双阴离子配体过渡金属配合物,其中,式V1、式V2和式V3中的R1、R2、R3、R9、R10和R11各自独立地选自C1~C10的烷基、C3~C10环烷基、C6~C20的芳香基和C7~C20芳烷基中的至少一种;优选地,选自C1~C6的烷基、C3~C8环烷基、C6~C15的芳香基和C7~C15芳烷基中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的含双阴离子配体过渡金属配合物,其中,式V1、式V2和式V3中的R4、R5、R6、R7和R8各自独立地选自氢、氯、溴、C1~C8的烷基和C3~C8环烷基中的至少一种;优选地,选自氢、氯、溴、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、环戊基和环己基中的至少一种;更优选氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基和叔丁基中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的含双阴离子配体过渡金属配合物,其中,式V1、式V2和式V3中的X为溴、氯和C1~C6的烷氧基中的至少一种,优选地,X为氯;式V2和式V3中的Z为氧。
5.权利要求1-4中任意一项所述的含双阴离子配体过渡金属配合物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将配体原料与三甲基氯硅烷在含三乙胺的第一有机溶剂中反应,除去第一有机溶剂后得到固体;将得到的固体加入第二有机溶剂,除去不溶物后得到含三甲基硅取代基的化合物溶液,进一步脱除溶剂后得到含三甲基硅取代基的化合物;
(2)将VOX3与酚在第三有机溶剂中反应,除去HX,得到含氧负离子配体的钒配合物;
(3)将所述含三甲基硅取代基的化合物和所述含氧负离子配体的钒配合物在第四有机溶剂中反应,得到沉淀物,过滤、干燥后得到所述的含氮氧负离子配体的钒配合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州汉韦聚合物有限公司,未经常州汉韦聚合物有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111678168.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:建筑工程用磷石膏轻质抹灰装置
- 下一篇:换热器装置及机柜





