[发明专利]显示面板的制作方法在审

专利信息
申请号: 202111624509.X 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114283686A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 胡绍君 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/30 分类号: G09F9/30;G02F1/13
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 孟霞
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 制作方法
【说明书】:

本申请提供一种显示面板的制作方法,包括:提供一基板,所述基板上具有残胶;提供一清洗装置,包括清洗机;所述清洗机包括毛刷单元,所述毛刷单元包括第一毛刷组,所述基板位于所述第一毛刷组之上,所述基板上的残胶面向所述第一毛刷组;开启所述第一毛刷组,以去除所述基板上的残胶;在所述基板上形成驱动电路层,以得到阵列基板。本申请提供的显示面板的制作方法能够改善显示面板残胶不良且提升显示面板良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板的制作方法。

背景技术

偏光板不良会造成显示面板厂的重复工作成本、产能和人力成本的损失。经分析可知,造成偏光板不良的主要原因是液晶盒外侧的玻璃基板上的残胶的去除效果不明显。现有技术中的去除玻璃基板上的残胶的效果不明显,造成了显示面板残胶不良,不利于提高显示面板良率。

发明内容

因此,本申请提供一种能够改善显示面板残胶不良且提升显示面板良率的显示面板的制作方法。

本申请提供一种显示面板的制作方法,包括:

提供一基板,所述基板上具有残胶;

提供一清洗装置,包括清洗机;所述清洗机包括毛刷单元,所述毛刷单元包括第一毛刷组,所述基板位于所述第一毛刷组之上,所述基板上的残胶面向所述第一毛刷组;

开启所述第一毛刷组,以去除所述基板上的残胶;

在所述基板上形成驱动电路层,以得到阵列基板。

在本申请一可选实施例中,所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-1.2mm。

在本申请一可选实施例中,所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-0.8mm。

在本申请一可选实施例中,所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-0.6mm。

在本申请一可选实施例中,所述毛刷单元还包括第二毛刷组,所述基板位于所述第一毛刷组和所述第二毛刷组之间。

在本申请一可选实施例中,所述第二毛刷组不开启。

在本申请一可选实施例中,所述清洗装置还包括:

上载单元,位于所述清洗机一侧且用于将所述基板转移至所述毛刷单元内,并使得所述基板位于所述第一毛刷组和所述第二毛刷组之间;及

卸载单元,位于所述清洗机一侧且用于将清洗好的所述基板从所述清洗机内部取出。

在本申请一可选实施例中,所述清洗机还包括有机物去除单元、清洗单元、干燥单元及转移组件;

所述有机物去除单元位于所述上载单元及所述毛刷单元之间且用于去除来自于所述上载单元的所述基板上的有机物;

所述清洗单元位于所述毛刷单元的一侧且用于清洗来自于所述毛刷单元的所述基板;

所述干燥单元位于所述清洗单元与所述卸载单元之间且用于干燥来自于所述清洗单元的所述基板;及

所述转移组件用于所述基板在所述有机物去除单元、所述毛刷单元、所述清洗单元、所述干燥单元及所述卸载单元之间转移。

在本申请一可选实施例中,所述驱动电路层包括半导体层,所述半导体层形成在所述基板上;所述半导体层的制作方法包括:

在去除了残胶的所述基板上形成一初始半导体层;

在所述初始半导体层上形成一光阻挡层;

图案化所述光阻挡层;

图案化所述初始半导体层,得到所述半导体层;及

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