[发明专利]显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板上具有残胶；

提供一清洗装置，包括清洗机；所述清洗机包括毛刷单元，所述毛刷单元包括第一毛刷组，所述基板位于所述第一毛刷组之上，所述基板上的残胶面向所述第一毛刷组；

开启所述第一毛刷组，以去除所述基板上的残胶；

在所述基板上形成驱动电路层，以得到阵列基板。

2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-1.2mm。

3.如权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-0.8mm。

4.如权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一毛刷组与所述基板之间的压量为0.5mm-0.6mm。

5.如权利要求1-4任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述毛刷单元还包括第二毛刷组，所述基板位于所述第一毛刷组和所述第二毛刷组之间。

6.如权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二毛刷组不开启。

7.如权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述清洗装置还包括：

上载单元，位于所述清洗机一侧且用于将所述基板转移至所述毛刷单元内，并使得所述基板位于所述第一毛刷组和所述第二毛刷组之间；及

卸载单元，位于所述清洗机一侧且作为清洗好的所述基板的置放点。

8.如权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述清洗机还包括有机物去除单元、清洗单元、干燥单元及转移组件；

所述有机物去除单元位于所述上载单元及所述毛刷单元之间且用于去除来自于所述上载单元的所述基板上的有机物；

所述清洗单元位于所述毛刷单元的一侧且用于清洗来自于所述毛刷单元的所述基板；

所述干燥单元位于所述清洗单元与所述卸载单元之间且用于干燥来自于所述清洗单元的所述基板；及

所述转移组件用于所述基板在所述有机物去除单元、所述毛刷单元、所述清洗单元、所述干燥单元及所述卸载单元之间转移。

9.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述驱动电路层包括半导体层，所述半导体层形成在所述基板上；所述半导体层的制作方法包括：

在去除了残胶的所述基板上形成一初始半导体层；

在所述初始半导体层上形成一光阻挡层；

图案化所述光阻挡层；

图案化所述初始半导体层，得到所述半导体层；及

去除图案化后的光阻挡层。

10.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括：

提供彩膜基板和液晶，并将所述液晶封装在所述阵列基板和所述彩膜基板之间。