[发明专利]曲面贴合光栅偏振膜片及其制造方法与金属栅模具有效
| 申请号: | 202111516178.8 | 申请日: | 2021-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN114200564B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
| 发明(设计)人: | 白文宾;麦宏全;林咏翔;柯泰年 | 申请(专利权)人: | 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;业成光电(无锡)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B5/30;B29C35/08;B29C33/42;B29C33/44 |
| 代理公司: | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人: | 温国杰 |
| 地址: | 611730 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曲面 贴合 光栅 偏振 膜片 及其 制造 方法 金属 模具 | ||
1.一种曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,适用于贴于曲面,其特征在于,包含有下列步骤:
提供金属栅模具,所述金属栅模具上具有复数个沟槽,每个所述沟槽与所述金属栅模具的表面形成夹角,所述夹角至少具有两种以上不同的数值;
依据所述沟槽的所述夹角,依序于所述沟槽内形成复数个栅体;
于所述金属栅模具的所述表面形成连接所述栅体的基板;及
将所述基板连同所述栅体自所述金属栅模具剥离,以获得所述曲面贴合光栅偏振膜片;
其中提供所述金属栅模具的步骤,包含有:
提供基材,并于其表面上涂布光阻材料;
藉由曝光显影方式于所述光阻材料上定义出所述栅体的位置、宽度与长度;
以所述夹角依序蚀刻所述基材以形成所述沟槽;及
去除所述光阻材料形成所述金属栅模具;
其中所述夹角藉由下列步骤取得:
取得所述曲面的轮廓;
藉由所述轮廓上对应于所述栅体的位置的法线,来计算所述法线与入射光的夹角;及
转换所述入射光的夹角而获取所述沟槽的夹角。
2.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述基材以离子蚀刻的方式来形成所述沟槽。
3.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述基材的材质为硅、化合物半导体、玻璃或塑料。
4.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中依据所述沟槽的所述夹角,于所述沟槽内形成复数个栅体的步骤中,采用电镀或是沉积的方式来形成所述栅体。
5.如权利要求4所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述电镀的方式藉由蒸镀或溅镀的方式来进行。
6.如权利要求4所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述沉积的方式藉由电化学沉积的方式来进行。
7.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述栅体的材质为铝、铁、金或银。
8.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述栅体内具有奈米材料或量子点。
9.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述栅体末端更形成有抗反射材料。
10.如权利要求9所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述抗反射材料为介电材料。
11.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中于所述金属栅模具的表面形成所述基板的步骤前,更包含有以光微影蚀刻来定义出所述栅体的步骤。
12.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中所述基板为光硬化高分子材料所构成。
13.如权利要求12所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中于将所述基板连同所述栅体自所述金属栅模具剥离的步骤前,更包含将所述基板经过紫外光硬化。
14.如权利要求1所述的曲面贴合光栅偏振膜片的制造方法,其特征在于,其中将所述基板连同所述栅体自所述金属栅模具剥离,以获得所述曲面贴合光栅偏振膜片的步骤中,采用真空吸引的方式将所述基板连同所述栅体取出。
15.一种曲面贴合光栅偏振膜片,适用于贴于曲面,其特征在于,其利用如权利要求1所述的制造方法所制造。
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