[发明专利]一种基底有序介孔石墨烯的包覆方法在审
| 申请号: | 202111515476.5 | 申请日: | 2021-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN114256463A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
| 发明(设计)人: | 董安钢;蔡青福;杨东 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
| 主分类号: | H01M4/62 | 分类号: | H01M4/62;C01B32/194;C01B32/168;C01B33/12;C01B21/064;C01B32/205 |
| 代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 张磊 |
| 地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基底 有序 石墨 方法 | ||
1.一种基底有序介孔石墨烯的包覆方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将基底分散于油酸钾或油酸钠溶液中,超声搅拌;
(2)向步骤(1)所得的溶液中加入硝酸铁溶液,沉淀后水洗;
(3)将步骤(2)所得沉淀冻干,然后高温热解、刻蚀、石墨化;
其中,步骤(1)中所述的基底为石墨烯、二氧化硅微球、碳管、氮化硼、碳纤维或硅片中的一种;
步骤(3)中高温热解条件为N2氛围下,400-500℃碳化2-4小时;刻蚀剂为3-6 mol/L 的盐酸溶液;步骤(3)中石墨化条件为Ar氛围,800-1600 oC石墨化3-6小时。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为石墨烯,层数1-2层,直径1-5微米。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为直径10-60 nm的碳纳米管。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为直径厚度5-10nm,直径2-6的微米的氮化硼二维片。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为直径400-800 nm的二氧化硅微球。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为直径5-15μm的碳纤维。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中基底为直径5-30 mm的硅片。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中油酸钾或油酸钠与步骤(2)中的硝酸铁的摩尔比为3:1。
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