[发明专利]适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法、系统、终端及介质

权利要求书

1.一种适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，包括：

基于透过谱最优化算法拟合薄膜透过率，通过所述薄膜透过率得到实际薄膜光学参数；

确定所述实际薄膜光学参数与镀膜工艺参数之间的关联关系；

通过调整所述镀膜工艺参数来调节来改变所述实际薄膜光学参数，进而调整所述薄膜透过率。

2.根据权利要求1所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，所述基于透过谱最优化算法拟合薄膜透过率，通过所述薄膜透过率得到实际薄膜光学参数，其过程包括：

利用矩阵法计算薄膜透过率；

将所述薄膜透过率的计算值与实测值的相对误差平均值作为目标函数；所述目标函数用以表征一组假定的光学参数与实际光学参数之间的接近程度；

以所述目标函数最小化时求得的薄膜光学参数作为所述实际薄膜光学参数。

3.根据权利要求1所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，所述实际薄膜光学参数与镀膜工艺参数之间的关联关系包括：所述实际薄膜光学参数中的折射率n与所述镀膜工艺参数中镀膜液的原材料、造孔剂、配合比之间的关系。

4.根据权利要求3所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，还包括：对折射率进行监控；若监控到折射率的变化率超过预设阈值，则发出报警信号，以提示更换镀膜液。

5.根据权利要求1所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，所述实际薄膜光学参数与镀膜工艺参数之间的关联关系包括：所述实际薄膜光学参数中的薄膜厚度与所述镀膜工艺参数中的压辊压紧量、压辊转动速率，输送辊速率之间的关系。

6.据权利要求5所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，还包括：生产节奏发生变化时，根据薄膜厚度与压辊压紧量、压辊转动速率，输送辊速率之间的关系，进行相应调整以使镀膜厚度保持不变。

7.据权利要求5所述的适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法，其特征在于，还包括：对折射率及薄膜厚度进行监控；若监控到折射率的变化率未发生较大变化但薄膜厚度变化率超过预设阈值，则通过调整压辊压紧量、压辊转动速率或输送辊速率来稳定薄膜厚度值。

8.一种适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整系统，其特征在于，包括：

拟合模块，用于基于透过谱最优化算法拟合薄膜透过率，通过所述薄膜透过率得到实际薄膜光学参数；

关系模块，用于确定所述实际薄膜光学参数与镀膜工艺参数之间的关联关系；

调整模块，用于通过调整所述镀膜工艺参数来调节来改变所述实际薄膜光学参数，进而调整所述薄膜透过率。

9.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项所述适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法。

10.一种电子终端，其特征在于，包括：处理器及存储器；

所述存储器用于存储计算机程序；

所述处理器用于执行所述存储器存储的计算机程序，以使所述终端执行如权利要求1至7中任一项所述适用于辊涂镀膜膜层工艺的薄膜透过率调整方法。