[发明专利]数字印刷方法在审

专利信息
申请号: 202111451181.6 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN114148098A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: B·兰达;S·阿布拉莫维奇;M·黎万嫩;G·高卢德茨;H·切奇克;O·梅洛;T·库尔泽;A·加利利;U·波美兰茨;D·阿维塔尔;J·库伯尔瓦瑟尔;O·阿史克纳茨 申请(专利权)人: 兰达公司
主分类号: B41J11/00 分类号: B41J11/00;B41J2/01;B41J2/005
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 王珺;卜晨
地址: 以色列*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 数字 印刷 方法
【权利要求书】:

1.一种印刷系统,包括:

a.具有剥离表面的中间转移构件(ITM),所述ITM包括安装在多个导辊上的柔性环形带,所述多个导辊包括其位置限定所述ITM的上部行程及其下部行程的第一导辊和第二导辊;

b.一定量的水性油墨;

c.一定量的水性处理制剂;以及

d.处理工位,其设置成被构造为在其下部行程在所述ITM表面上形成水性处理制剂的均匀层,所述处理工位包括:

I.用所述水性处理制剂涂布所述ITM的涂布机;以及

II.用于除去过量液体以仅留下水性处理制剂的所需均匀薄层的涂层厚度调节组装件,所述涂层厚度调节组装件包括在所述下部行程面向所述ITM表面的圆形尖端;以及

e.用于在所述ITM表面上形成油墨图像的图像形成工位,所述图像形成工位设置在所述处理工位的下游,以使得所述ITM的上部行程穿过所述图像形成工位;

其中:

A.所述系统被构造为使得水性处理制剂的所述均匀层干燥,以由此在所述ITM表面上形成干燥的处理膜;

B.所述图像形成工位被构造为通过将水性油墨液滴沉积在所述干燥的处理膜上,来在所述ITM表面上形成所述油墨图像;以及

C.所述系统还包括压印工位,所述压印工位设置在所述图像形成工位的下游,所述ITM的下部行程穿过所述压印工位,所述图像形成工位被构造为通过所述ITM与基材之间的压力接触将所述油墨图像从所述ITM表面转移到所述基材。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述剥离层基于有机硅。

3.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述有机硅基剥离层表面具有足够的亲水性以满足以下性质中的至少一种:(i)沉积在所述有机硅基剥离层表面上的蒸馏水滴的后退接触角为至多60°;以及(ii)沉积在所述有机硅基剥离层表面上的蒸馏水滴的10-秒动态接触角(DCA)为至多108°。

4.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述一定量的水性处理制剂包括至少1重量%的至少一种水溶性聚合物,其在25℃下在水中的溶解度为至少5%。

5.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述一定量的水性处理制剂包括含水的载液,所述水占所述水性处理制剂的至少50重量%。

6.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述处理工位被构造为在所述ITM表面上形成所述水性处理制剂的所述均匀层,使得所述均匀层的厚度为至多0.8μm。

7.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述干燥的处理膜是干燥的亲水处理膜。

8.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述系统被构造为使得水性制剂的所述均匀层的干燥执行得足够快以防止成珠,使得由此形成的所述干燥的亲水处理膜是内聚性的聚合物处理膜。

9.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述系统被构造为使得水性制剂的所述均匀层的干燥执行得足够快,以使得在所述湿处理层的干燥处理期间,所述湿处理层的动态粘度在至多1秒的时间段内增加至少500倍。

10.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述ITM表面被推向所述圆形尖端。

11.根据权利要求10所述系统,其中通过背衬辊并且经由所述ITM朝向所述圆形尖端施加向下的力。

12.根据权利要求10所述系统,其中所述系统还包括具有可压缩表面的背衬辊,并且其中所述背衬辊被推向所述ITM表面从而使得:(i)压缩所述可压缩辊的所述表面并且(ii)使得所述圆形尖端连同所述ITM一起以预定的穿入深度穿入到所述背衬辊的所述可压缩表面中。

13.根据前述权利要求中任一项所述的系统,其中所述圆形尖端向上施加到所述ITM的所述下部行程的水平取向的部分。

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