[发明专利]激光调控纳米压印对准装置及调控方法

权利要求书

1.一种激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，包括：

壳体，具有一安装腔；

第一调准组件，配置于所述安装腔内，所述第一调准组件包括第一调准板和第一调节结构，所述第一调准板上配置有第一定位卡槽，所述第一调准板上于所述第一定位卡槽边缘的预设位置贯穿开设有多个第一光通道，所述第一调准板在所述第一调节结构的作用下可在x、y以及z方向上移动；

第二调准组件，配置于所述安装腔内，所述第二调准组件包括第二调准板和第二调节结构，所述第二调准板配置于所述第一调准板的下方，所述第二调准板上配置有第二定位卡槽，所述第二定位卡槽与所述第一定位卡槽相对设置，所述第二调准板上于所述第二定位卡槽边缘的预设位置贯穿开设有与所述第一光通道平行且相对应的第二光通道，所述第二调准板在所述第二调节结构的作用下可在z方向上移动；以及

检测组件，包括发射器组，探测器组以及检测器组，所述发射器组配置于所述第一调准板上方且能发射与所述第一光通道、第二光通道同轴的紫外激光束以及发射呈扩散形分布的自然光线，所述探测器组配置于所述第二调准板上且能探测穿过所述第一光通道照射其上的自然光线，所述探测器组上贯穿开设有中心孔洞，所述中心孔洞与所述第二光通道同轴设置，所述检测器组配置于所述第二调准板下方，可检测穿过所述第一光通道和所述第二光通道的紫外激光束；

其中，在所述第一调准板与所述第二调准板平行对准时，所述发射器组发射的紫外激光束可依次穿过所述第一光通道、所述探测器组的中心孔洞以及所述第二光通道，被所述检测器组检测接收。

2.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，所述第一调准板上开设有多个校准通孔，所述校准通孔与所述第二光通道对应设置，且当所述第一调准板处于特定位置时，每个所述校准通孔的中轴线与与之相对应的所述第二光通道的中轴线重合。

3.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，还包括磁吸组件，所述磁吸组件包括设于所述第一调准板上的第一磁吸件以及设于所述第二调准板上的第二磁吸件，所述第一磁吸件与所述第二磁吸件相对设置且在通电时产生相互的磁吸力。

4.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，所述第一定位卡槽以及所述第二定位卡槽内均配置有多个定位件，多个所述定位件沿所述第一定位卡槽和所述第二定位卡槽边缘均匀分布且能相对所述第一定位卡槽和所述第二定位卡槽侧壁移动。

5.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，所述第一调节结构包括多个可调节支撑柱，所述可调节支撑柱分别支撑于所述第一调准板的预设位置，以对所述第一调准板进行局部或整体高度调节及固定；和/或，

所述第二调节结构包括多个可调节支撑柱，所述可调节支撑柱分别支撑于所述第二调准板的预设位置，以对所述第二调准板进行局部或整体高度调节及固定。

6.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，还包括固化光源，所述固化光源配置于所述安装腔内，用于固化压印胶。

7.如权利要求1所述的激光调控纳米压印对准装置，其特征在于，所述壳体具有可开合所述安装腔的壳体门，所述壳体门与所述壳体之间密封设置，所述壳体上配置有压力调节结构，所述压力调节结构能对所述安装腔进行真空压力调节。

8.一种基于权利要求1～7任一所述的激光调控纳米压印对准装置的调控方法，其特征在于，包括：

控制所述发射器组发射紫外激光束和扩散的自然光线；

对第二调准板的位置进行调整：根据所述检测器组是否接收到紫外激光束信号，控制所述第二调节结构调整所述第二调准板的位置，直至紫外激光束穿过所述第二光通道，照射于所述检测器组上；

对第一调准板的位置进行调整：根据所述探测器组探测到的穿过所述第一光通道的自然光线照射于所述探测器组上的位置以及与所述探测器组的中心孔洞之间距离，控制所述第一调节结构调整所述第一调准板的位置，直至所述紫外激光束穿过所述第一光通道、所述中心孔洞和所述第二光通道，照射于所述检测器组上。