[发明专利]预估镀膜速率获取系统

说明书

本发明提供一种预估镀膜速率获取系统，包括：通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器，所述服务器包括处理器和存储器，所述日志数据库的第i条记录包括(i，w1_i，w2_i，Y_i)。其中，在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X_n时，所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤：S100，从日志数据库中获取w1_n‑1、w2_n‑1和Y_n‑1；S200，基于X_n和获取的w1_n‑1、w2_n‑1和Y_n‑1确定Y_n；S300，将获取的Y_n存储到日志数据库中；S400，设置n＝n+1。本发明能够提高测量准确度。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，具体涉及一种预估镀膜速率获取系统。

背景技术

现有所谓测量镀膜速率的主要手段是依靠晶振仪，即在真空室内，镀膜基盘附近设立测量点，安装晶振片。在镀膜过程中，晶振片与产片同时被镀膜，晶振片被镀上膜后，振动频率会同步衰减，根据这个衰减速度推断镀膜速率。

然而，这种通过晶振片测量镀膜速率的方案，完全依赖光控或晶控的测量结果作为依据，但是受设备存在的干扰因素影响，测量结果是存在偏差的。测量点是在陪镀位置，它是固定的而不是随着产品一起运动，因此产品所在的运动机构带来的如震动，速度偏差等不能直接反馈到测量结果里，因而导致测量结果和实际是存在偏差的差异。另外，由于测量设备本身存在的误差，也会影响测量结果。即，现有的测量方案中，存在以下技术问题：(1)测量过程中，会出现异常峰值，增加分析工作量；(2)设备硬件与环境存在干扰因素，会导致测量数据波动；(3)测量设备存在精确度误差，不考虑进去会导致测量结果存在偏差。

发明内容

针对上述技术问题，本发明实施例提供一种预估镀膜速率获取系统，能够在不增加额外的物料成本的前提下，提高生产过程中的镀膜测量准确度。

本申请采用的技术方案为：

本发明实施例提供一种预估镀膜速率获取系统，包括：通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器，所述服务器包括处理器和存储器，所述存储器中存储有计算机程序，所述日志数据库的第i条记录包括(i，w1_i，w2_i，Y_i)， w1_i为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数，w2_i为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数，Y_i为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i的取值为1到n-1，n为采样周期的数量；所述数据测量装置用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给所述处理器；

其中，在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X_n时，所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤：

S100，从日志数据库中获取w1_n-1、w2_n-1和Y_n-1；

S200，基于X_n和获取的w1_n-1、w2_n-1和Y_n-1确定Y_n；

S300，将获取的Y_n存储到日志数据库中；

S400，设置n＝n+1。

本发明实施例中，通过本次采样周期的实测镀膜速率和上一次预估镀膜速率以及相应的实测镀膜速率修正系数和预估镀膜速率修正系数，能够消除外界干扰和测量装置本身测量误差所导致的实测镀膜速率的不准确，从而能够获得尽可能准确的反应实际镀膜速率的预估镀膜速率。

附图说明