[发明专利]扬声器的混合振膜结构以及平面式振膜扬声器在审

专利信息
申请号: 202111319350.0 申请日: 2021-11-09
公开(公告)号: CN114531634A 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 周耀圣;陈冠杰;魏一峰;林孝义 申请(专利权)人: 玻音先创科技股份有限公司
主分类号: H04R7/04 分类号: H04R7/04;H04R9/02;H04R9/06
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 江葳
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 扬声器 混合 膜结构 以及 平面 式振膜
【权利要求书】:

1.一种扬声器的混合振膜结构,其包括:

衬底;

第一振膜,设置于所述衬底的中央区域;

第一线圈结构,设置于所述第一振膜上;

第一沟槽,分隔所述第一振膜与所述衬底;及

第一桥接结构,耦接所述第一振膜到所述衬底,

其中所述第一振膜与所述衬底包括相同材料。

2.根据权利要求1所述的混合振膜结构,其中所述第一振膜的厚度小于或等于所述衬底的厚度。

3.根据权利要求1所述的混合振膜结构,更包括材料层,设置于所述第一沟槽上,且耦接所述衬底与所述第一振膜。

4.根据权利要求1所述的混合振膜结构,其中所述第一振膜更包括:

第一表面以及与所述第一表面相反的第二表面;

复数个第一凹槽,由所述第一表面朝向所述第二表面凹进;以及

复数个第二凹槽,由所述第二表面朝向所述第一表面凹进。。

5.根据权利要求1所述的混合振膜结构,更包括:

第二振膜,设置于所述第一振膜的中央区域上;

第二线圈结构,设置于所述第二振膜上;

第二沟槽,将所述第二振膜与所述第二线圈结构自所述第一振膜隔开;及

第二桥接结构,耦接所述第二振膜到所述第一振膜,

其中所述第一线圈结构与所述第二线圈结构设置于所述混合振膜结构的同一侧。

6.根据权利要求1所述的混合振膜结构,更包括:

第二振膜;及

第二线圈结构,

其中所述第一振膜及所述第一线圈结构藉由所述衬底而与所述第二振膜及所述第二线圈结构分隔。

7.一种平面式振膜扬声器,其包括:

第一衬底;

第二衬底,具有面对所述第一衬底的第一表面以及相反于所述第一表面的第二表面;

边框,耦接所述第一衬底到所述第二衬底;

混合振膜,设置于所述第一衬底内,所述混合振膜包括有:

振动部分,包括有面对所述第二衬底的第三表面以及相反于所述第三表面的第四表面;

线圈结构,设置于所述振动部分的所述第三表面上;

沟槽,分隔所述混合振膜与所述第一衬底;以及

至少一桥接结构,耦接所述混合振膜到所述第一衬底,

其中所述第一衬底与所述混合振膜的所述振动部分包括相同材料。

8.根据权利要求7所述的平面式振膜扬声器,更包括磁铁,设置于所述第二衬底的所述第一表面,其中在上视图中所述线圈结构包围所述磁铁。

9.根据权利要求7所述的平面式振膜扬声器,更包括第一磁铁,设置于所述第二衬底的所述第二表面,其中在上视图中所述线圈结构包围所述第一磁铁。

10.根据权利要求9所述的平面式振膜扬声器,更包括第二磁铁,设置于所述第二衬底的所述第一表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于玻音先创科技股份有限公司,未经玻音先创科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111319350.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top