[发明专利]阵列基板、液晶显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111256192.9 申请日: 2021-10-27
公开(公告)号: CN113934064A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 崔贤植 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 周颖颖
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 液晶显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括:衬底,所述衬底上设有阵列排布的多个子像素和多个公共电极,所述子像素包括像素电极,其特征在于,所述阵列基板还包括:沿列方向延伸且沿行方向并排设置的多个垂直墙,相邻两个所述垂直墙之间设有一列所述子像素;

沿行方向相邻两个所述垂直墙具有彼此相向的第一面和第二面,所述第一面设有所述像素电极,所述第二面设有所述公共电极,相向设置的所述像素电极和所述公共电极之间相互绝缘;

在所述衬底的厚度方向上,相向设置的所述像素电极和所述公共电极各自到所述衬底的距离不同。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,每个所述垂直墙远离所述衬底的一侧依次层叠设有所述像素电极、绝缘膜层以及所述公共电极;

沿行方向每个所述垂直墙具有彼此相背的两个表面;对于一个所述垂直墙,其上的所述像素电极覆盖所述两个表面的其中之一,其上的公共电极在所述衬底上的正投影覆盖所述两个表面的其中另一在所述衬底上的正投影。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,每个所述垂直墙远离所述衬底的一侧依次层叠设有所述公共电极、绝缘膜层以及所述像素电极;

沿行方向每个所述垂直墙具有彼此相背的两个表面;对于一个所述垂直墙,其上的像素电极在所述衬底上的正投影覆盖所述两个表面的其中之一在所述衬底上的正投影,其上的公共电极至少覆盖所述两个表面的其中另一。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述多个垂直墙包括沿行方向交替设置的第一垂直墙和第二垂直墙;所述第一垂直墙远离所述衬底的一侧设有两个异层设置的所述像素电极,所述第二垂直墙远离所述衬底的一侧设有两个异层设置的所述公共电极,异层设置的两个所述像素电极之间、异层设置的两个所述公共电极之间均设有绝缘膜层;

沿行方向每个所述垂直墙具有彼此相背的两个表面;对于一个所述第一垂直墙,两个所述像素电极在所述衬底上的正投影分别对应覆盖所述两个表面在所述衬底上的正投影;对于一个所述第二垂直墙,两个所述公共电极在所述衬底上的正投影分别对应覆盖所述两个表面在所述衬底上的正投影。

5.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,每个所述像素电极包括第一主体部和第一边沿延伸部,所述第一主体部搭设在所述垂直墙上,所述第一边沿延伸部与所述第一主体部靠近所述衬底的端部相连。

6.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,每个所述公共电极包括第二主体部和第二边沿延伸部,所述第二主体部搭设在所述垂直墙上,所述第二边沿延伸部与所述第二主体部靠近所述衬底的端部相连。

7.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,每个所述公共电极沿列方向延伸,每列所述子像素对应有一个所述公共电极。

8.根据权利要求2-4任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述垂直墙垂直于列方向的横截面呈上窄下宽的等腰梯形结构,所述垂直墙具有垂直于行方向的对称面,所述对称面将所述垂直墙垂直于列方向的外表面划分为两个所述表面;和/或,

所述垂直墙在所述衬底上的正投影以及与该垂直墙相邻的所述子像素在所述衬底上的正投影存在交叠。

9.一种液晶显示面板,其特征在于,包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板以及设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层,所述阵列基板采用如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求9所述的液晶显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111256192.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top