[发明专利]具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂及其复合材料和制备方法

权利要求书

1.一种具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂，其特征在于，其结构式如下：

其中，R₁、R₂、R₃自由的选择CH₃或H，R选择甲基或苯基，n为1～5的整数。

2.根据权利要求1所述的一种具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂，其特征在于，所述R₁、R₂和R₃为以下选择：

1)R₁＝R₂＝R₃＝H；或，

2)R₁＝R₂＝-CH₃，R₃＝H；或，

3)R₁＝H，R₂＝R₃＝-CH₃；或，

4)R₁＝-CH₃，R₂＝R₃＝H；或，

5)R₁＝R₂＝H，R₃＝-CH₃。

3.根据权利要求1所述的一种具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂，其特征在于，所述具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂数均分子量为900～2500，多分散系数为1.2～1.8。

4.如权利要求1-3中任一项所述具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)对二乙炔基二苯甲烷或具有侧甲基的对二乙炔基二苯甲烷的合成

11)在酸性条件下，将亚硝酸钠水溶液滴加到二氨基二苯甲烷或其同系物中，制备重氮盐溶液；

12)将重氮盐溶液滴入碘化钾溶液中，反应后用溶剂萃取，再洗涤，干燥除去溶剂后，重结晶得到对二碘二苯甲烷或具有侧甲基的对二碘二苯甲烷；

13)对二碘二苯甲烷或具有侧甲基的对二碘二苯甲烷加入三乙胺、四氢呋喃、三甲基乙炔基硅烷、碘化亚铜和钯催化剂，在氮气环境下进行Sonogashira反应，反应后，洗涤得到产物，得到对二(三甲基硅乙炔基)二苯甲烷或具有侧甲基的对二(三甲基硅乙炔基)二苯甲烷；

14)将对二(三甲基硅乙炔基)二苯甲烷或具有侧甲基的对二(三甲基硅乙炔基)二苯甲烷加入甲醇与四氢呋喃混合溶剂中，并加入碱，反应，脱去三甲基硅烷，重结晶得到对二乙炔基二苯甲烷或具有侧甲基的对二乙炔基二苯甲烷；

2)树脂的合成

21)在氮气气氛下，将溴乙烷滴加入镁粉和四氢呋喃的混合物中，进行反应，制备乙基格氏试剂；

22)将对二乙炔基二苯甲烷或具有侧甲基的对二乙炔基二苯甲烷在乙基格氏试剂中进行反应，制备炔基格氏试剂；

23)将得到的炔基格氏试剂降温至20℃以下，滴加二氯硅烷，聚合反应，得到聚合产物；

24)在步骤23)所得聚合产物加入溶剂萃取，待反应液冷却至室温以下，依次滴加冰醋酸和盐酸溶液终止反应，并除去未反应的镁粉，水洗提取液至中性后干燥，除去溶剂后得到树脂。

5.根据权利要求4所述具有对二乙炔基二苯甲烷结构的硅芳炔树脂的合成方法，其特征在于，

步骤11)中，所述二氨基二苯甲烷或其同系物的化学结构式如下：

其中，R₁、R₂、R₃自由的选择CH₃或H；

步骤13)中，所选钯催化剂为双三苯基膦二氯化钯或四三苯基膦钯的一种或几种；

步骤14)中，二乙炔基二苯甲烷或二乙炔基二甲基苯甲烷具有如下化学结构式：

其中，R₁、R₂、R₃自由的选择CH₃或H。