[发明专利]一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构

权利要求书

1.一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：它包括变刚度三自由度微动结构(1)、电容传感器支架(3)和底板(4)；

底板(4)的上表面设有一个变刚度三自由度微动结构(1)，且变刚度三自由度微动结构(1)与底板(4)的上表面之间设有一个电容传感器支架(3)，变刚度三自由度微动结构(1)和电容传感器支架(3)均通过螺栓与底板(4)的上表面连接；

所述的变刚度三自由度微动结构(1)包括传输平台(101)、直梁形铰链(102)、传递单元(103)、动力块(104)、半球体(2)和压电陶瓷(5)；

传输平台(101)为底端开口的正六棱体状，且传输平台(101)其中的三个侧壁加工有矩形通孔，传输平台(101)另外的三个侧壁加工有T型通孔，且每个加工有矩形通孔的侧壁设置在两个加工有T型通孔的侧壁之间，每个侧壁上的T型通孔的内部底端设有一个预紧螺孔(105)，且预紧螺孔(105)的内部设有一个预紧螺栓，且T型通孔的竖直段内部嵌设有一个压电陶瓷(5)，压电陶瓷(5)的顶部设有一个动力块(104)，且动力块(104)的两侧分别设有一个传递单元(103)，且传递单元(103)的外侧与T型通孔的内壁接触，动力块(104)的顶端设有螺纹孔，半球体(2)的底部设有螺纹孔，半球体(2)的底部上的螺纹孔的内部设有顶丝，且顶丝的底端与动力块(104)顶端的螺纹孔连接，传输平台(101)通过两个对称式直梁形铰链(102)与动力块(104)的顶端连接，且直梁形铰链(102)设置在T型通孔的横向端的内部，直梁形铰链(102)的底部与传递单元(103)的顶部接触；

所述的电容传感器支架(3)包括Y型挡块(302)和电容传感器支架底座(303)；电容传感器支架底座(303)上表面中部设有Y型挡块(302)，Y型挡块(302)和电容传感器支架底座(303)一体设置。

2.根据权利要求1所述的一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：所述的传输平台(101)上每个矩形通孔的内部底面设有一个锁紧螺纹孔(106)，且锁紧螺纹孔(106)的内部设有一个锁紧螺栓，传输平台(101)通过锁紧螺栓与底板(4)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：所述的Y型挡块(302)的上表面三角处分别设有一个电容传感器安装定位孔(304)。

4.根据权利要求3所述的一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：所述的每个电容传感器安装定位孔(304)内部设有一个电容传感器。

5.根据权利要求1所述的一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：所述的Y型挡块(302)和电容传感器支架底座(303)的上表面中部分别设有一个沉头压紧螺纹孔(301)，沉头压紧螺纹孔(301)的内部设有一个固定螺栓，且固定螺栓穿过Y型挡块(302)和电容传感器支架底座(303)之后，与底板(4)固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种面向超精密测量与加工的双级变刚度微动机构，其特征在于：所述的电容传感器支架底座(303)的底面加工有走线槽(305)。