[发明专利]一种光刻机掩模台隔振装置

说明书

本发明涉及振动抑制领域，公开了一种光刻机掩模台隔振装置，该光刻机掩模台隔振装置包括：掩模台基座，投影物镜套筒，以及连接所述掩模台基座及所述投影物镜套筒的连接装置，其中连接装置为柔性支撑的装置，并且竖直放置的柔性片摆放成等腰三角形形状。本发明的有益效果为：通过柔性连接装置将掩模台基座与投影物镜套筒之间的连接形式从刚性连接转变为柔性连接，并且连接装置的三个支撑组件呈等腰三角形布置，支撑平稳可靠，同时利用竖直放置的柔性片使得连接装置在掩模台水平方向上具有低刚度甚至零刚度的特性，进而在掩模台水平方向上起到隔振效果。

技术领域

本发明涉及振动抑制领域，特别是涉及一种光刻机掩模台隔振装置。

背景技术

在集成电路(IC)工业的发展中，光刻技术一直起着至关重要的作用。这其中为代表的光刻机，集超精密测量与运动控制技术和光刻技术于一体，实现将掩模板上的芯片图形曝光到工件台上的硅片上的功能。在步进光刻机中，掩模台通过光源照明系统、投影物镜和工件台，将掩模图形曝光刻蚀在晶圆上，其中掩模台系统基座是与投影物镜套筒顶部直接刚性相连的。而在光刻机掩模台工作过程中，掩模台在高速、高加速度运动中产生的细微振动，容易引起掩模台及与跟其相连的投影物镜两者之间的对准位置发生偏离，由于光刻机的精度为纳米级别，即使是极其微小的位置偏离，都会直接影响后续晶圆的光刻质量。为了消除振动因素对光刻机掩模台运动与定位精度的影响，就要求掩模台系统基座与投影物镜套筒顶部连接的支撑装置兼顾隔振和支撑功能。然而，现有技术中，还未有针对掩模台系统基座与投影物镜套筒顶部连接而特殊设计的隔振支撑装置。

发明内容

本申请的目的是提供一种光刻机掩模台隔振装置，其不仅能够支撑掩模台基座稳定固定在投影物镜套筒上，而且能够实现掩模台水平方向的隔振，并提高光刻质量和精度。

本申请的目的是通过如下技术方案实现的：

一种光刻机掩模台隔振装置，包括：掩模台基座，投影物镜套筒，以及连接所述掩模台基座及所述投影物镜套筒的连接装置；

所述连接装置包括第一支撑组件、第二支撑组件及第三支撑组件，所述第一支撑组件、所述第二支撑组件及所述第三支撑组件处于同一平面，所述第一支撑组件包括：第一底部连接部、第一顶部连接部及第一柔性片，所述第一柔性片的两侧分别连接所述第一底部连接部及所述第一顶部连接部，所述第一顶部连接部与所述掩模台基座相连，所述第一底部连接部与所述投影物镜套筒相连；

所述第二支撑组件包括：第二底部连接部、第二顶部连接部及第二柔性片，所述第二柔性片的两侧分别连接所述第二底部连接部及所述第二顶部连接部，所述第二顶部连接部与所述掩模台基座相连，所述第二底部连接部与所述投影物镜套筒相连；

所述第三支撑组件包括：第三底部连接部、第三顶部连接部及第三柔性片，所述第三柔性片的两侧分别连接所述第三底部连接部及所述第三顶部连接部，所述第三顶部连接部与所述掩模台基座相连，所述第三底部连接部与所述投影物镜套筒相连；

沿所述连接装置的俯视方向观察：

沿所述第一柔性片的长度方向延伸形成第一连接线，沿所述第二柔性片的长度方向延伸形成第二连接线，沿所述第三柔性片的长度方向延伸形成第三连接线，所述第一连接线、所述第二连接线与所述第三连接线之间围合形成经过所述第一柔性片、所述第二柔性片及所述第三柔性片的等腰三角形，其中，所述第一连接线形成所述等腰三角形的底边，且所述第一柔性片的横截面的几何中心到所述第二柔性片的横截面的几何中心的距离，与所述第一柔性片的横截面的几何中心到所述第三柔性片的横截面的几何中心的距离相等。

本申请的一些实施例中，所述等腰三角形的顶角为60°～120°。

本申请的一些实施例中，所述等腰三角形的顶角为80°～100°。