[发明专利]一种高透过率深紫外滤光片的制备方法在审
| 申请号: | 202111107054.4 | 申请日: | 2021-09-22 |
| 公开(公告)号: | CN113802093A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
| 发明(设计)人: | 王永杰;戴乾;王峰 | 申请(专利权)人: | 武汉正源高理光学有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/10;C23C14/22;C23C14/30;G02B5/20;G02B5/28 |
| 代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 刘点 |
| 地址: | 430000 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 透过 深紫 滤光 制备 方法 | ||
本发明公开了一种高透过率深紫外滤光片的制备方法,它包括以下步骤:步骤1:选定滤光片的初始结构为:Air/(LH)m/Sub/(LH)n/Air。有益效果在于:本发明所述的高透过率深紫外滤光片采用金属Hf和HfO2作为高折射率膜料,SiO2作为低折射率膜料,实现了220nm波长处透过率大于80%,235‑290nm处的透过率平均值小于1%,减反射膜和滤光截止膜使用同样的两种镀膜材料,简化了制造工艺,滤光片一致性好,降低了滤光片制造对设备的限制,减低了制造成本,便于批量化生产,同时由于波长220nm的紫外线穿透能力最弱,无法穿透大部分的透明玻璃、塑料,且具有传统紫外灯同样的消毒杀菌效果,因而该滤光片在应用于杀菌场所的同时有效解决了紫外消毒杀菌时有人在场的安全问题。
技术领域
本发明涉及到光学薄膜滤光片技术领域,尤其涉及一种高透过率深紫外滤光片的制备方法。
背景技术
紫外线杀菌的有效波长范围可分为四个不同的波段:UVA(400~315nm)、UVB(315~280nm)、UVC(280~200nm)和真空紫外线(200~100nm);其中能透过臭氧保护层和云层到达地球表面的只有UVA和UVB部分;就杀菌速度而言,UVC处于微生物吸收峰范围之内,可在1s之内通过破坏微生物的DNA结构杀死病毒和细菌,而UVA和UVB由于处于微生物吸收峰范围之外,杀菌速度很慢,往往需要数小时才能起到杀菌作用,在实际工程的数秒钟水力停留(照射)时间内,该部分实际上属于无效紫外部分;真空紫外光穿透能力极弱,灯管和套管需要采用极高透光率的石英,一般用半导体行业降解水中的TOC,不用于杀菌消毒;因此,给排水工程中所说的紫外光消毒实际上就是指UVC消毒。紫外光消毒技术是基于现代防疫学、医学和光动力学的基础上,利用特殊设计的高效率、高强度和长寿命的UVC波段紫外光照射流水,将水中各种细菌、病毒、寄生虫、水藻以及其他病原体直接杀死,达到消毒的目的;紫外线消毒杀菌用途很广,医院、学校、托儿所、电影院、公交车、办公室、家庭等,它能净化空气,消除霉味,此外还能产生一定量的负氧离子,经紫外线消毒的房间,空气特别清新;在公共场合,经紫外线消毒,可避免一些病菌经空气传播或经物体表面传播;但目前的紫外线消毒杀菌的时候不能有人在场的情况下安全地进行,这大大限制了紫外线消毒杀菌的方便灵活广泛有效应收。
波长220nm的紫外线穿透能力最弱,无法穿透大部分的透明玻璃、塑料,且具有传统紫外灯同样的消毒杀菌效果;因此研制出一种在220nm波长高透过深紫外消毒杀菌仪器中的深紫外滤光片,将大幅度提高深紫外的消毒杀菌效果,同时很好地解决有人在场时的消毒杀菌的安全问题,拓宽深紫外消毒杀菌的使用领域和场所,经济价值和社会效益也将非常可观。
发明内容
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种高透过率深紫外滤光片的制备方法。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的:
一种高透过率深紫外滤光片的制备方法,它包括以下步骤:
步骤1:选定滤光片的初始结构为:Air/(LH)m/Sub/(LH)n/Air,其中Sub表示基板,H和L表示光学厚度为λ/4的高低折射率材料的膜层,m、n为膜层的周期数;
步骤2:选择基板Sub的材料,高折射率材料H和低折射率材料L;
步骤3:根据滤光片的技术指标设定优化目标参数,包括波长、通过率;
步骤4:根据设定的目标值进行滤光片的优化设计;
步骤5:将优化好的滤光片膜系用离子源辅助沉积的方式镀到基板上,确定镀膜后的滤光片是否满足设计的要求,若不满足,通过初始沉积温度、沉积真空度、沉积速率、离子源电流、电压、沉积时的充气量等工艺参数进行调整,直至满足目标值。
进一步的,该滤光片包括紫外透过基板、镀制在紫外透过基板一面的减反射膜层和另外一面的滤光截止膜层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉正源高理光学有限公司,未经武汉正源高理光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111107054.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





