[发明专利]一种激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置及方法

权利要求书

1.一种激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述装置包括：

基体，其设有靶球支撑部和容纳腔，所述靶球支撑部被配置为支撑靶球，所述容纳腔位于所述靶球支撑部的下方，且所述容纳腔的中心轴与所述靶球支撑部的中心轴同轴；

底座，其设于所述基体外围，其被配置为支撑所述基体，并与所述基体在竖向相对位置不变，在水平方向相对位置可变；

划点组件，该划点组件被配置为容纳于所述容纳腔内，所述划点组件的底部包括划点端，该划点端被配置为在放样位置处划点，所述划点端与所述容纳腔的中心轴同轴；

水平调节部分，其被配置为在竖向与所述底座相对位置可调，以调节所述基体的水平度；

水平度显示仪，其包括在所述基体的上表面设置的两个沿长度方向的中心线相互垂直的水平气泡仪，用于在水平调节过程中监测所述基体的水平度，每个所述水平气泡仪的横向或纵向中心线都不经过另一个水平气泡仪；

位置调节机构，其包括横向位置调节装置和纵向位置调节装置，所述横向位置调节装置采用对顶的方式调节所述基体的横向位置坐标，所述纵向位置调节装置采用单个丝杆推拉的方式调节所述基体的纵向位置坐标，且所述横向位置调节装置与纵向位置调节装置穿过所述底座并且轴向分别对应两个所述水平气泡仪所在的基体的边；

所述水平调节部分为水平调节螺旋杆，所述水平调节螺旋杆的数量为三个，所述底座的外形呈正四边形，所述底座的其中相邻的两个角和所述两个角所在边的对边中心处分别设置所述水平调节螺旋杆；所述水平调节螺旋杆与所述水平气泡仪均呈交错分布，即任何一个所述水平气泡仪的中心与所述基体的中心的连线都不与任意一个所述水平调节螺旋杆至所述基体的中心的连线相交；

所述划点组件包括划点器、弹性元件和助力器，所述划点器的下端为所述划点端，所述弹性元件使得所述划点器没被压下时其划点端保持在所述基体的容纳腔内；所述助力器设于所述划点器的上端，所述助力器与所述划点器为一体件或单独的部件，所述助力器包括压下面，所述弹性元件设于所述划点器与助力器之间，且位于所述压下面下方。

2.根据权利要求1所述的激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述两个水平气泡仪各自在所述基体的边缘设置。

3.根据权利要求2所述的激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述基体为正四面体，两个所述水平气泡仪分别设置在所述基体的相邻两边处。

4.根据权利要求1至3任一项所述的激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述水平气泡仪的中心距离所述基体的中心距离为50±5mm。

5.根据权利要求1至3任一项所述的激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述水平调节螺旋杆的下端呈锥形，所述横向位置调节装置与纵向位置调节装置为顶紧机构或螺旋机构。

6.根据权利要求1或2或3所述的激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置，其特征在于，所述装置还包括靶球吸附部分，所述靶球吸附部分设于所述靶球支撑部下方，且位于所述划点组件上方；所述靶球吸附部分包括磁铁，该磁铁为环形永磁铁；所述靶球吸附部分还包括限位卡簧，其在竖向方向限制所述磁铁；所述容纳腔包括一组不同直径的容纳孔，所述靶球吸附部分与所述划点组件分别位于不同容纳孔处；所述靶球支撑部为所述容纳腔顶部周圈的弧面，该弧面与所述靶球的球面相匹配；所述装置还包括靶球，所述靶球与所述靶球支撑部相配合安装。

7.一种利用权利要求1至6任一项所述激光跟踪仪平面坐标高精度放样装置进行放样的方法，其特征在于，所述方法包括：

通过激光跟踪仪监测和判断支撑靶球的基体的位置度，通过水平调节部分进行基体的水平调节，直至放样装置的位置度和水平度达到精度要求；

通过划点组件在放样面上划点标记。