[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供掩膜板；所述掩膜板一侧具有间隔设置的多个凹槽；

提供衬底；

在所述衬底的一侧形成压印胶层；

采用所述掩膜板对所述压印胶层进行压印，形成与所述多个凹槽相对应的多个柱状结构；

对压印后的压印胶层进行固化；

在所述多个柱状结构的表面及所述多个柱状结构之间的间隙形成第一金属纳米层；

在所述第一金属纳米层远离所述衬底的一侧形成多个发光器件；发光器件包括依次层叠的阳极、发光层和阴极；所述第一金属纳米层和所述多个柱状结构被配置为，和所述阳极相配合，对所述发光层发出的光进行处理，使得所述发光器件发出单色光。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述压印胶层的材料包括无溶剂胶。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述压印胶层的材料包括醋酸乙烯共聚物热熔胶。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在形成与所述多个凹槽相对应的多个柱状结构之后，所述多个柱状结构和所述衬底之间具有压印胶残留；

所述制作方法还包括：

在所述对压印后的压印胶层进行固化之后，进行灰化处理，暴露所述衬底的部分。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

所述在所述衬底的一侧形成压印胶层之前，在所述衬底的一侧形成第二金属纳米层。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一金属纳米层和所述第二金属纳米层的材料相同。

7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一金属纳米层的材料包括金、银或铝；

所述第二金属纳米层的材料包括金、银或铝。

8.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第二金属纳米层的厚度为300nm～400nm。

9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一金属纳米层的厚度为40nm～100nm。

10.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

衬底；

设置在所述衬底一侧的多个柱状结构；

设置在所述多个柱状结构的表面及所述多个柱状结构之间间隙的第一金属纳米层；以及，

设置在所述第一金属纳米层远离所述衬底一侧的多个发光器件；其中，发光器件包括依次层叠的阳极、发光层和阴极；所述第一金属纳米层和所述多个柱状结构被配置为，和所述阳极相配合，对所述发光层发出的光进行处理，使得所述发光器件发出单色光。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述多个柱状结构的材料包括无溶剂胶或无机材料。

12.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述衬底和所述多个柱状结构之间的第二金属纳米层。

13.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述多个发光器件沿第一方向排列为多行，沿第二方向排列为多列；

一行发光器件的阳极相连接，呈一体结构；

一列发光器件的阴极相连接，呈一体结构。

14.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述衬底和所述多个柱状结构之间的多个像素驱动电路；像素驱动电路与所述发光器件的阳极电连接。