[发明专利]一种晶圆承载结构及半导体检测设备有效
| 申请号: | 202111050284.1 | 申请日: | 2021-09-08 |
| 公开(公告)号: | CN113793827B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
| 发明(设计)人: | 徐扬;孙良峰;沈锦华 | 申请(专利权)人: | 合肥御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 梁佳强 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 承载 结构 半导体 检测 设备 | ||
1.一种晶圆承载结构,其特征在于,包括:
托盘(1),所述托盘(1)能够放置于工作台(10)上,所述托盘(1)能够承载多个基底(100);
定位标记(2),所述定位标记(2)设置于所述托盘(1)上,定位结构能够识别所述定位标记(2);
所述晶圆承载结构还包括多个定位条(3),多个所述定位条(3)均设置于所述托盘(1)上,且多个所述定位条(3)首尾依次连接围设形成一容置空间,以所述定位条(3)为基准,多个所述基底(100)按照预设的排布方式布置在所述容置空间内。
2.根据权利要求1所述的晶圆承载结构,其特征在于,所述定位标记(2)位于所述容置空间的外侧。
3.根据权利要求2所述的晶圆承载结构,其特征在于,每个所述定位条(3)的外侧均设置有多个沿各自的长度方向间隔分布的所述定位标记(2)。
4.根据权利要求1所述的晶圆承载结构,其特征在于,所述托盘(1)为圆盘形结构,且所述托盘(1)的外缘设置有定位切边(11)。
5.根据权利要求1所述的晶圆承载结构,其特征在于,所述晶圆承载结构还包括静电吸附组件(4),所述静电吸附组件(4)设置于所述托盘(1)上,所述静电吸附组件(4)被配置为通过静电作用将所述基底(100)吸附于所述托盘(1)上。
6.根据权利要求1所述的晶圆承载结构,其特征在于,所述托盘(1)与所述定位标记(2)为一体成型结构。
7.一种半导体检测设备,其特征在于,包括:
工作台(10);
如权利要求1-6中任一项所述的晶圆承载结构,所述晶圆承载结构能放置于所述工作台(10)上;
传输机构(20),被配置为将所述晶圆承载结构粗定位后放置于所述工作台(10)上。
8.根据权利要求7所述的半导体检测设备,其特征在于,所述传输机构(20)包括:
承载台,用于承载所述晶圆承载结构;
粗定位组件,位于所述承载台的上方,所述粗定位组件包括定位相机(201)和识别件(202),所述定位相机(201)能够获取所述承载台上的所述晶圆承载结构的图像信息,所述识别件(202)能够识别所述晶圆承载结构上的定位标记(2);
调整组件,设置于所述承载台上,所述调整组件能够根据所述粗定位组件的检测结果调整所述晶圆承载结构的位置;
转移组件,能够抓取所述承载台上的所述晶圆承载结构并将其转移至所述工作台(10)上。
9.根据权利要求7所述的半导体检测设备,其特征在于,还包括精定位组件(40),所述精定位组件(40)位于所述工作台(10)的上方,所述精定位组件(40)能够获取所述工作台(10)上的所述晶圆承载结构上的定位标记(2)的位置信息。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





