[发明专利]一种以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜在审
| 申请号: | 202110973443.9 | 申请日: | 2021-08-23 |
| 公开(公告)号: | CN113675530A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
| 发明(设计)人: | 刘方;刘瑾豪;李越旺 | 申请(专利权)人: | 长园泽晖新能源材料研究院(珠海)有限公司 |
| 主分类号: | H01M50/431 | 分类号: | H01M50/431;H01M50/446;H01M50/451;H01M50/417;H01M50/426;H01M50/457;H01M10/0525 |
| 代理公司: | 深圳市世通专利代理事务所(普通合伙) 44475 | 代理人: | 贺爱文 |
| 地址: | 519000 广东省珠海市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 纳米 二氧化硅 填料 pvdf 隔膜 | ||
1.一种以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:包括一复合膜,该复合膜由基膜(1)以及至少一层涂覆在基膜单面或者两侧面上的涂层(2)组成,该涂层(2)为纳米二氧化硅填充PVDF涂层,纳米二氧化硅硅氧四面体形成的立体网状结构将涂层(2)与基膜(1)粘接固定。
2.根据权利要求1所述的以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述纳米二氧化硅填充PVDF涂层为纳米二氧化硅和PVDF混合之后涂覆的涂层,或者,所述纳米二氧化硅填充PVDF涂层为纳米二氧化硅涂层和PVDF涂层的结合。
3.根据权利要求1所述的以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述基膜(1)为聚烯烃多孔基膜,聚烯烃多孔基膜的厚度为5-25μm。
4.根据权利要求1所述的以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:所述复合膜的厚度为7-30μm。
5.根据权利要求1所述的以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:位于基膜(1)一侧或者双侧的涂层(2)的层数为1-3层。
6.根据权利要求5所述的以纳米二氧化硅为填料的PVDF隔膜,其特征在于:每一层纳米二氧化硅填充PVDF涂层的厚度为1-5μm。
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