[发明专利]投影用光学系统及投影型显示装置在审
| 申请号: | 202110934265.9 | 申请日: | 2021-08-13 |
| 公开(公告)号: | CN114089516A | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
| 发明(设计)人: | 永利由纪子 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G02B13/22 | 分类号: | G02B13/22;G02B13/18;G03B21/20;G03B21/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 高颖 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 用光 系统 显示装置 | ||
1.一种投影用光学系统,其特征在于,形成显示于图像显示面的图像的中间像,并将所述中间像进行投影来形成放大像,
所述投影用光学系统从缩小侧朝向放大侧沿着光路依次包括第1光学系统和第2光学系统,
所述第1光学系统在放大侧是远心的,
在存在包括所述投影用光学系统内的最靠缩小侧的光学元件且在放大侧是远心的多个光学系统的情况下,在所述多个光学系统中,所包含的光学元件的数量最少的光学系统为第1光学系统,
所述第1光学系统为具有共同的第1光轴的共轴系统,并且在缩小侧是非远心的,
所述第2光学系统为具有共同的第2光轴的共轴系统,并且在缩小侧是远心的,
所述第1光轴与所述第2光轴是平行的。
2.根据权利要求1所述的投影用光学系统,其中,
在将至以所述投影用光学系统的缩小侧焦点位置为基点的所述投影用光学系统的缩小侧光瞳位置为止的所述第1光轴上的距离设为Exp、
将所述投影用光学系统的缩小侧的最大像高设为Ymax、
针对Exp,将比所述基点更靠放大侧的距离的符号设为负、将比所述基点更靠缩小侧的距离的符号设为正的情况下,
所述投影用光学系统满足下述条件式(1),
-5<Exp/Ymax<-0.5 (1)。
3.根据权利要求1或2所述的投影用光学系统,其中,
在将至以所述第1光学系统的最靠缩小侧的面为基点的所述第1光学系统的缩小侧焦点位置为止的所述第1光轴上的空气换算距离设为Bf1、
将至以所述投影用光学系统的最靠缩小侧的面为基点的所述投影用光学系统的缩小侧焦点位置为止的所述第1光轴上的空气换算距离设为Bf、
将至以所述投影用光学系统的缩小侧焦点位置为基点的所述投影用光学系统的缩小侧光瞳位置为止的所述第1光轴上的距离设为Exp、
针对Bf1、Bf及Exp,将各自的比所述基点更靠放大侧的距离的符号设为负、将各自的比所述基点更靠缩小侧的距离的符号设为正的情况下,
所述投影用光学系统满足下述条件式(2),
-1.5<(Bf1-Bf-Exp)/Ymax<1.5 (2)。
4.根据权利要求1或2所述的投影用光学系统,其中,
在将所述投影用光学系统的缩小侧的最大像高设为Ymax、
将所述第2光学系统的焦距设为f2、
将所述投影用光学系统的焦距设为f、
将所述放大像位于无限远的位置的状态下的、至以所述第2光学系统的缩小侧的近轴成像位置为基点的所述第2光学系统的缩小侧的Ymax×|f2/f|×0.8的像高下的弧矢像面为止的所述第2光轴的方向上的距离设为Sr、
将所述放大像位于无限远的位置的状态下的、至以所述第2光学系统的缩小侧的近轴成像位置为基点的所述第2光学系统的缩小侧的Ymax×|f2/f|×0.8的像高下的子午像面为止的所述第2光轴的方向上的距离设为Tr、
针对Sr及Tr,将各自的比所述基点更靠放大侧的距离的符号设为负、将各自的比所述基点更靠缩小侧的距离的符号设为正、
针对f2及f,在各光学系统为变倍光学系统时设为广角端处的各值的情况下,
所述投影用光学系统满足下述条件式(3)及(4),
0.47<Ymax/|f| (3)
0<|(Sr+Tr)/2|/Ymax<0.1 (4)。
5.根据权利要求1或2所述的投影用光学系统,其中,
在将所述第2光学系统的焦距设为f2、
将所述投影用光学系统的焦距设为f、
针对f2及f,在各光学系统为变倍光学系统时设为广角端处的各值的情况下,
所述投影用光学系统满足下述条件式(5),
0.6<|f2/f|<4 (5)。
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