[发明专利]一种纳米多层水氧阻隔膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，具体为：

S1，将质量占比为5%~40%的长条形纳米无机颗粒与第一塑料颗粒混合后加入第一挤出主机中熔融处理后得到第一流体原料；将第二塑料颗粒加入第二挤出主机中熔融处理后得到第二流体原料；

S2，将所述第一流体原料和所述第二流体原料分别通入分层器的第一通道和第二通道中，通过并排且独立设置的若干所述第一通道和所述第二通道对所述第一流体原料和所述第二流体原料按照目标膜层数量及排列顺序进行分层；

S3，通过对应的整流道分别对从所述第一通道和所述第二通道中的熔融流体按照目标膜层中每层膜厚流延成膜，然后通过冷却辊冷却后得到A/A/...A/A/B交替膜层或A/A/.../A/A/B/A/A.../A/A交替膜层，其中A为所述第一流体原料形成的膜层，B为所述第二流体原料形成的膜层；

S4，通过纵横向拉伸机组对所述A/A/...A/A/B交替膜层或A/A/.../A/A/B/A/A.../A/A交替膜层以2.0~5.0的拉升倍率分别进行拉伸后得到纳米多层水氧阻隔膜。

2.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述纳米无机颗粒为纳米三氧化二铝、纳米二氧化镁、纳米二氧化硅、纳米二氧化锆和纳米二氧化钛中的一种。

3.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述第一流体原料中的所述纳米无机颗粒始终为长条形颗粒状。

4.根据权利要求1~3任一所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述纳米无机颗粒为柱状或椭圆体结构，且其长度为50~200nm。

5.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述第一塑料颗粒和所述第二塑料颗粒独立地选自PI、PET、PCTG和PEN中的一种或两种。

6.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述A/A/...A/A/B交替膜层中A膜层的层数为10~100层，B膜层为单一层结构，厚度为20~250um。

7.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述A/A/.../A/A/B/A/A.../A/A交替膜层中B膜层为单一层结构，厚度为20~250um，B膜层上侧和下侧的A膜层分别为10~100层。

8.根据权利要求1所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法，其特征在于，所述纳米多层水氧阻隔膜的厚度为25~250um。

9.一种纳米多层水氧阻隔膜，其特征在于，采用权利要求1~8任一所述的纳米多层水氧阻隔膜制备方法制得。

10.一种纳米多层水氧阻隔膜的应用，其特征在于，使用权利要求9所述的纳米多层水氧阻隔膜应用于有机发光器件的水氧阻隔层。