[发明专利]存储阵列的缺陷定位方法、装置、设备及可读存储介质有效
| 申请号: | 202110801540.X | 申请日: | 2021-07-15 |
| 公开(公告)号: | CN113538376B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
| 发明(设计)人: | 王文琪;王班;陈金星;马霏霏;吴佳琪 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/12;G06T7/181;G06T7/66;G06T7/73;G11C29/50 |
| 代理公司: | 北京英思普睿知识产权代理有限公司 16018 | 代理人: | 刘莹;聂国斌 |
| 地址: | 430000 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 存储 阵列 缺陷 定位 方法 装置 设备 可读 介质 | ||
1.存储阵列的缺陷定位方法,包括:
对所述存储阵列的检测图像进行灰度处理以获得所述检测图像中的多个电压衬度的灰度值,其中,所述检测图像为电压衬度图像,所述电压衬度指示所述存储阵列对应的检测位置可能存在缺陷;
在灰度处理后的检测图像中识别出所述多个电压衬度的轮廓;
根据识别出的所述轮廓获取对应的所述检测位置的坐标,以与所述检测位置在所述存储阵列中的编号建立对应关系;以及
根据所述灰度值和所述对应关系定位出所述存储阵列的缺陷。
2.根据权利要求1所述的缺陷定位方法,其特征在于,通过电子束检测所述存储阵列的所述检测位置获得包括所述多个电压衬度的所述检测图像。
3.根据权利要求1所述的缺陷定位方法,其特征在于,所述存储阵列的检测位置包括阵列孔位置。
4.根据权利要求1所述的缺陷定位方法,其特征在于,在灰度处理后的检测图像中识别出所述多个电压衬度的轮廓包括:
获取灰度处理后的所述检测图像中的轮廓点集合;以及
从所述检测图像的轮廓点集合中提取出所述多个电压衬度的轮廓。
5.根据权利要求4所述的缺陷定位方法,其特征在于,从所述检测图像的轮廓点集合中提取出所述多个电压衬度的轮廓包括:
基于所述检测图像中的轮廓点集合计算多个轮廓周长;
将多个所述轮廓周长与周长预设值比较;
响应于所述轮廓周长与所述周长预设值的比较结果符合预设条件,将该轮廓周长对应的轮廓对应于所述电压衬度的轮廓。
6.根据权利要求5所述的缺陷定位方法,其特征在于,根据识别出的所述轮廓获取对应的所述检测位置的坐标包括:
获取多个所述电压衬度的轮廓点坐标;以及
基于所述轮廓点坐标筛选出所述轮廓的重心点坐标作为对应的所述检测位置的坐标。
7.根据权利要求6所述的缺陷定位方法,其特征在于,基于所述轮廓点坐标筛选出所述轮廓的重心点坐标作为对应的所述检测位置的坐标包括:
基于所述轮廓点的X坐标和Y坐标集合得到所述重心点的坐标集合;以及
在所述重心点的坐标集合中筛选出不重复的重心点坐标作为对应的所述检测位置的坐标。
8.根据权利要求1所述的缺陷定位方法,其特征在于,根据所述灰度值和所述对应关系定位出所述存储阵列的缺陷包括:
通过所述灰度值确定所述电压衬度指示的缺陷;以及
基于建立的所述对应关系,确定出所述缺陷的位置。
9.根据权利要求8所述的缺陷定位方法,其特征在于,通过所述灰度值确定所述电压衬度指示的缺陷包括:
将所述多个电压衬度的灰度值与参考值比较;以及
响应于所述电压衬度的灰度值与所述参考值的比较结果符合预设条件,将该电压衬度与所述缺陷对应。
10.根据权利要求1所述的缺陷定位方法,其特征在于,所述方法还包括对所述检测位置的坐标的缺失值进行填充。
11.根据权利要求1-10任一项所述的缺陷定位方法,其特征在于,所述方法应用于三维存储器。
12.根据权利要求11所述的缺陷定位方法,其特征在于,所述三维存储器包括三维非易失性存储器。
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