[发明专利]基于引线键合的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置有效
| 申请号: | 202110779646.4 | 申请日: | 2021-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN113471168B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
| 发明(设计)人: | 范政伟;陈循;刘泰成;蒋瑜;张书锋;汪亚顺 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522;G01R31/28;H01L21/66 |
| 代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 邱轶 |
| 地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 引线 tsv 应力 可靠性 试验 芯片 结构 装置 | ||
本发明涉及一种基于引线键合的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置,芯片结构,包括:硅衬底,硅衬底上阵列设置有多个贯通硅衬底上表面和下表面的TSV结构;顶部电极,位于硅衬底的上表面上,用于与TSV结构的顶部相连接;底部电极,位于硅衬底的下表面上,用于与TSV结构的底部相连接;硅衬底上顶部电极和底部电极分别选择性的与TSV结构的端部相连接形成菊花链互连结构或开尔文链互连结构。测试装置包括固定支撑板、测试电路板、多应力加载装置、信号采集装置等。本方案能够方便且全面地实现对实际的单个TSV或者多个TSV链路结构进行多应力加载,实现了通过试验手段科学全面且准确地评估TSV结构的可靠性。
技术领域
本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种基于引线键合的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置。
背景技术
随着先进芯片制程向3nm迈进,晶圆二维平面上晶体管密度逐渐接近物理极限,同时伴随着芯片研发成本的大幅度上升和研发周期的延长。因而,“摩尔定律”已经失灵。基于硅通孔(Through silicon vias,TSV)结构的三维集成封装因此应运而生。三维集成封装通过TSV和堆叠的方式将晶圆进行垂直方向上的集成,从而获得更小尺寸、更高带宽、更低延迟、更高性能的封装芯片,并且还可以与微机电系统(MEMS)实现异构集成,获得功能集成、高性能、低成本的芯片产品。这种显著的优势使得三维封装芯片得到了学术界和工程界的重视,相关产品已经逐渐从实验室走向市场应用。
但是,三维封装芯片也同时带来了新的可靠性问题,需要对其进行科学准确的可靠性评估,才能使相关产品快速走向市场并提高用户使用信心。TSV结构是三维集成封装最为典型和关键的结构之一,在芯片中承担能量、信号通路和机械支撑功能,其可靠性直接影响芯片性能和服役寿命,因而需要对其进行科学全面且准确地可靠性试验与评估。基于TSV的三维封装芯片在其制造和使用过程中需要承受温度、湿度、电流/电压、振动等多应力耦合作用,因而对其进行可靠性试验与评估必须要考虑多应力的耦合影响。而当前已有TSV结构可靠性的研究基本以有限元热仿真为主,缺少试验研究。为数不多的试验研究设计了专用的TSV测试芯片,对其进行了热循环和电偏置测试,但是这些芯片及测试电路均不能实现多应力加载。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于引线键合的TSV多应力可靠性试验芯片结构、装置。
为实现上述发明目的,本发明提供一种基于引线键合的TSV多应力可靠性试验芯片结构,包括:
硅衬底,所述硅衬底上阵列设置有多个贯通所述硅衬底上表面和下表面的TSV结构;
顶部电极,位于所述硅衬底的上表面上,并用于与所述TSV结构的顶部相连接;
底部电极,位于所述硅衬底的下表面上,并用于与所述TSV结构的底部相连接;
在所述硅衬底上,所述顶部电极和所述底部电极分别选择性的与所述TSV结构的端部相连接形成菊花链互连结构或开尔文链互连结构。
根据本发明的一个方面,在所述硅衬底上,所述顶部电极和所述底部电极将选择的所述TSV结构进行首尾相连形成所述菊花链互连结构。
根据本发明的一个方面,在所述硅衬底上,所述底部电极将选择的所述TSV结构的底部同时连接,所述顶部电极与选择的所述TSV结构的顶部一一对应设置形成所述开尔文链互连结构;
所述开尔文链互连结构中的所述TSV结构为三个。
根据本发明的一个方面,所述顶部电极上设置有引线键合部;
所述引线键合部的设置数量与所述顶部电极相连接的所述TSV结构的数量相一致;
所述顶部电极和所述底部电极分别为采用微铸造法制成的薄片电极;
所述顶部电极的所述引线键合部为梯形结构。
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