[发明专利]特征底库构建、特征检索方法以及相关装置有效

专利信息
申请号: 202110750680.9 申请日: 2021-07-02
公开(公告)号: CN113255610B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 杨凯航 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G06V40/16 分类号: G06V40/16;G06K9/62;G06V10/74
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 黎坚怡
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 特征 构建 检索 方法 以及 相关 装置
【权利要求书】:

1.一种特征底库构建方法,其特征在于,包括:

从特征底库中待插入特征的最高目标层的上一层中,确定所述最高目标层的第一入口特征;

基于所述第一入口特征在所述最高目标层中搜索得到所述待插入特征的第一匹配特征,将所述第一匹配特征与所述待插入特征建立关联;

响应于所述最高目标层的上一层中的所述第一匹配特征数量未达预设数量,确定所述最高目标层的上一层的第二入口特征,基于所述第二入口特征在所述最高目标层的上一层中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征,将所述第二匹配特征与所述待插入特征建立关联;

遍历数据库中的所有所述待插入特征,将所有所述待插入特征插入至特征底库中,以完成所述特征底库的构建。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述响应于所述最高目标层的上一层中的所述第一匹配特征数量未达预设数量,确定所述最高目标层的上一层的第二入口特征,基于所述第二入口特征在所述最高目标层的上一层中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征的步骤还包括:

响应于所述最高目标层的上一层中不具有所述待插入特征,且响应于所述最高目标层的上一层中所述第一匹配特征数量未达到预设数量,确定所述最高目标层的上一层的第二入口特征,基于所述第二入口特征在所述最高目标层的上一层中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

响应于所述最高目标层的上一层中具有所述待插入特征,或者响应于所述最高目标层的上一层中不具有所述待插入特征,且响应于所述最高目标层的上一层中所述第一匹配特征数量达到预设数量,确定所述最高目标层的下一层的第三入口特征,基于所述第三入口特征在所述最高目标层的下一层中搜索得到所述待插入特征的第三匹配特征。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述从特征底库中所述待插入特征的最高目标层的上一层中,确定所述最高目标层的第一入口特征的步骤,包括:

利用贪婪搜索的方式从所述特征底库的最高层至所述最高目标层的上一层中进行搜索,以得到确定所述第一入口特征。

5.一种特征检索方法,其特征在于,所述方法包括:

获取待检索特征;

从特征底库的最底层的上一层中确定与所述待检索特征匹配的第一特征集合,所述第一特征集合中包括与所述待检索特征匹配的多个特征;所述特征底库为通过上述权利要求1~4任一项所述的特征底库的构建方法构建而成的;

以所述第一特征集合中至少两个所述特征作为所述特征底库的最底层的搜索入口,从所述特征底库的最底层检索与所述待检索特征匹配的第二特征集合。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述从所述特征底库的最底层的上一层中确定与所述待检索特征匹配的第一特征集合的步骤之前,之前包括:

以预设搜索入口从所述特征底库的最高层检索与所述待检索特征匹配度最高的特征,以作为所述特征底库的最高层的下一层的当前搜索入口;

以所述当前搜索入口,从所述特征底库的最高层的下一层检索与所述待检索特征匹配度最高的特征。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述以所述第一特征集合中至少两个所述特征作为所述特征底库的最底层的搜索入口,从所述特征底库的最底层检索与所述待检索特征匹配的第二特征集合的步骤,包括:

计算所述第一特征集合中每一所述特征与所述待检索特征的相似度;

从所述第一特征集合中选择相似度最高的至少两个所述特征作为所述特征底库的最底层的搜索入口,从所述特征底库的最底层检索与所述待检索特征匹配的第二特征集合。

8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述以所述第一特征集合中至少两个所述特征作为所述特征底库的最底层的搜索入口,从所述特征底库的最底层检索与所述待检索特征匹配的第二特征集合的步骤,包括:

以所述第一特征集合中至少两个所述特征作为所述特征底库的最底层的搜索入口,同时从所述特征底库的最底层检索与所述待检索特征匹配的第二特征集合。

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