[发明专利]测井图像填补方法、装置、介质及电子设备

权利要求书

1.一种测井图像填补方法，其特征在于，所述方法包括：

获取多个填补后测井图像；

针对每一填补后测井图像，随机生成与该填补后测井图像对应的多个掩膜图像；

将所述填补后测井图像和对应的掩膜图像输入至测井图像填补模型，以对所述测井图像填补模型进行训练，得到训练好的测井图像填补模型，其中，所述测井图像填补模型包括生成模块和鉴别模块，所述生成模块用于根据遮盖了对应的掩膜图像的所述填补后测井图像生成完整的测井图像，所述鉴别模块用于判别输入的测井图像是否真实；

获取待填补的目标测井图像；

生成与所述目标测井图像对应的目标掩膜图像；

将所述目标测井图像和所述目标掩膜图像输入至所述训练好的测井图像填补模型，得到由所述训练好的测井图像填补模型输出的与所述目标测井图像对应的目标填补后测井图像；

其中，所述生成与所述目标测井图像对应的目标掩膜图像包括：

获取用于生成目标掩膜图像的第一组超参数，所述第一组超参数包括预定像素阈值和预定尺寸阈值；

执行区域提取步骤，所述区域提取步骤包括：从所述目标测井图像中提取由像素值高于预定像素阈值的像素点构成的区域，并将所述区域中的像素点置为白色；

将所述区域中尺寸小于预定尺寸阈值的连续完整子区域消除，得到掩膜区域；

根据所述掩膜区域对应的图像矩阵与所述目标测井图像中与所述掩膜区域的位置相对应的区域的图像矩阵，确定掩膜损失值，其中，掩膜损失值用于衡量所述掩膜区域对应的图像矩阵跟所述目标测井图像中与所述掩膜区域的位置相对应的区域的图像矩阵之间的差异；

若所述掩膜损失值小于或等于预定掩膜损失阈值，则生成与所述掩膜区域对应的掩膜图像，否则，调整所述第一组超参数，并基于调整后的所述第一组超参数继续执行所述区域提取步骤及之后的步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一组超参数还包括扩张系数阈值，所述将所述区域中尺寸小于预定尺寸阈值的连续完整子区域消除，得到掩膜区域，包括：

将所述区域中尺寸小于预定尺寸阈值的连续完整子区域消除，并根据所述扩张系数阈值对消除了所述连续完整子区域的所述区域进行扩展操作，得到掩膜区域。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述生成模块包括编码器和解码器，所述编码器和所述解码器均包括多层门控卷积层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述测井图像填补模型中的鉴别模块利用谱归一化进行训练。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述测井图像填补模型进行训练所使用的损失函数包括填补损失，所述填补损失为用于衡量所述填补后测井图像与所述生成模块对应生成的完整的测井图像之间差异的指标。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的方法，其特征在于，所述针对每一填补后测井图像，随机生成与该填补后测井图像对应的多个掩膜图像，包括：

获取用于随机生成掩膜图像的第二组超参数，所述第二组超参数包括掩膜图像数量和掩膜区域大小阈值；

针对每一填补后测井图像，根据所述掩膜图像数量和所述掩膜区域大小阈值随机生成与该填补后测井图像对应的多个掩膜图像。