[发明专利]表面缺陷检测方法和相关产品在审
| 申请号: | 202110719827.8 | 申请日: | 2021-06-28 |
| 公开(公告)号: | CN113344904A | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
| 发明(设计)人: | 陈佳栋;党亮亮;暴天鹏;吴立威 | 申请(专利权)人: | 深圳市商汤科技有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/136;G06K9/46;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强;董文俊 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 表面 缺陷 检测 方法 相关 产品 | ||
1.一种表面缺陷检测方法,其特征在于,包括:
通过缺陷检测器对目标图像中的目标对象进行表面缺陷检测,得到表面缺陷检测结果;所述缺陷检测器由包括第一样本的多个训练样本训练得到,所述第一样本由对第二样本中的缺陷标注框中的非缺陷区域做隐藏处理得到;
输出所述表面缺陷检测结果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述缺陷标注框中的缺陷区域位于所述缺陷标注框的对角线区域,所述非缺陷区域为所述缺陷标注框中除缺陷区域之外的区域。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述缺陷标注框满足以下一个或一个以上条件:所述缺陷标注框的长度大于或等于长度阈值、所述缺陷标注框的宽度大于或等于宽度阈值、所述缺陷标注框的长度和宽度的比值小于或等于比例阈值。
4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述对第二样本中的缺陷标注框中的非缺陷区域做隐藏处理,包括:
基于所述缺陷标注框中缺陷的位置信息,生成掩膜;
基于所述掩膜对所述缺陷标注框的掩膜操作,隐藏所述缺陷标注框中的非缺陷区域。
5.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述对第二样本中的缺陷标注框中的非缺陷区域做隐藏处理,包括:
将所述缺陷标注框中的非缺陷区域中的各像素点的像素值调整为目标值。
6.根据权利要求1-5所述的方法,其特征在于,所述第二样本由对第三样本做亮度调节得到,所述目标图像为对待检测图像做亮度调节得到的图像。
7.根据权利要求1-6所述的方法,其特征在于,由包括第一样本的多个训练样本训练得到所述缺陷检测器的步骤,包括:
将所述多个训练样本输入到初始检测模型,得到多个表面缺陷检测结果;所述多个表面缺陷检测结果包括缺陷检测框、缺陷类别、缺陷大小中的至少一种;
基于所述多个表面缺陷检测结果和所述多个训练样本中的标注信息,确定所述多个训练样本对应的损失;
基于所述多个训练样本对应的损失优化所述初始检测模型的参数,得到所述缺陷检测器。
8.一种缺陷检测装置,其特征在于,包括:
处理单元,用于通过缺陷检测器对目标图像中的目标对象进行表面缺陷检测,得到表面缺陷检测结果;所述缺陷检测器由包括第一样本的多个训练样本训练得到,所述第一样本由对第二样本中的缺陷标注框中的非缺陷区域做隐藏处理得到;
输出单元,用于输出所述表面缺陷检测结果。
9.一种电子设备,其特征在于,包括处理器,所述处理器通过读取存储器中存储的代码,以执行如权利要求1至7任一项所述的方法。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序,所述计算机程序包括程序指令,所述程序指令当被处理器执行时,使所述处理器执行权利要求1至7任意一项所述的方法。
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