[发明专利]一种闭合盖的制备装置及制备方法

权利要求书

1.一种闭合盖的制备装置，其特征在于，包括：

母模，其设有凹槽；

公模，其具有与成型后的闭合盖相匹配的立体表面，并在该立体表面伸出一用于导引、校正和定型的凸柱，所述闭合盖未成型时是一平面半成品，所述平面半成品设有一贯穿的孔口；成型时，所述平面半成品覆盖在所述凹槽上，所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

2.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凹槽的边缘设有向下的台阶。

3.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凹槽为柱体凹槽。

4.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凸柱为下窄上宽的锥形。

5.根据权利要求4所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，所述凸柱最宽时的横截面形状、大小与成型后的闭合盖的孔口的形状、大小相匹配。

6.根据权利要求1所述的闭合盖的制备装置，其特征在于，在凹槽边缘的四周设有限位柱。

7.一种闭合盖的制备方法，其特征在于，其是用权利要求1-6任一所述的制备装置进行制备的，包括如下步骤：

S1.平面半成品覆盖在所述凹槽上；

S2.所述凸柱插入所述孔口并往凹槽压入，导引所述平面半成品往凹槽收缩弯曲，并在凹槽的限位下，自动校正所述平面半成品匹配公模立体表面的形状；

S3.在公模压入母模停止在固定位置后，将平面半成品成型成立体的闭合盖。

8.根据权利要求7所述的闭合盖的制备方法，其特征在于，S1中，平面半成品覆盖在所述凹槽上，并通过凹槽边缘的四周的限位柱限位平面半成品。

9.根据权利要求7所述的闭合盖的制备方法，其特征在于，S3中，公模压在台阶的位置上即是公模压入母模停止的固定位置。