[发明专利]一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构

权利要求书

1.一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构，其特征在于：所述的全向匹配隐身结构整体为柱状结构，主要由从内向外依次布置的小正方形柱体腔、中正方环形柱体腔和大正方环形柱体腔；

对于小正方形柱体腔和大正方环形柱体腔的四周的每一周侧，小正方形柱体腔和大正方环形柱体腔各自的两个外侧柱面相对应平行布置，在该两个外侧柱面之间的中正方环形柱体腔和大正方环形柱体腔内开设有正方形柱体隐形区域腔，正方形柱体隐形区域腔贯穿于中正方环形柱体腔和大正方环形柱体腔设置，正方形柱体隐形区域腔的四周侧柱面和该两个外侧柱面均成45度夹角布置，正方形柱体隐形区域腔的其中一个对角布置的两条侧棱分别位于小正方形柱体腔和大正方环形柱体腔的两个外侧柱面的沿柱向方向的中心线上，正方形柱体隐形区域腔的另一个对角布置的两条侧棱位于该两个外侧柱面之间的中正方环形柱体腔的外侧柱面上；

除了正方形柱体隐形区域腔以外的中正方环形柱体腔中沿对角线布置有多个间隔均匀分布的金属片，形成均匀法布里佩罗谐振腔阵列；除了正方形柱体隐形区域腔以外的大正方环形柱体腔中沿对角线布置有多个间隔非均匀分布的金属片，形成非均匀法布里佩罗谐振腔阵列；小正方形柱体腔内布置慢光速材料；TM波从全向匹配隐身结构整体的柱状结构四周柱面入射而透射过全向匹配隐身结构。

2.根据权利要求1所述的一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构，其特征在于：通过正方形柱体隐形区域腔将中正方环形柱体腔划分为沿圆周间隔分布的四个中柱体腔结构，处于同一对角线上的两个中柱体腔结构内布置有沿该对角线平行布置的多个金属片，且多个金属片等间隔布置；每个中柱体腔结构通过中正方环形柱体腔的对角面分为两个中柱体腔子结构，从而总共形成八个中柱体腔子结构；通过正方形柱体隐形区域腔以及大正方环形柱体腔的对角面将大正方环形柱体腔划分为沿圆周间隔分布的八个大柱体腔结构，对于每个大柱体腔结构，沿周向非均匀间隔布置多个金属片，多个金属片从大正方环形柱体腔的内侧柱面到外侧柱面以间距逐渐增大方式布置；

中正方环形柱体腔和大正方环形柱体腔各自中相邻的两个金属片之间均形成谐振腔；并且，在中正方环形柱体腔和大正方环形柱体腔的对角面处均设置一个金属片且对应连接，每个正方形柱体隐形区域腔四周的每周柱面均设置一个金属片，使得正方形柱体隐形区域腔内形成封闭的空间；中正方环形柱体腔中的中柱体腔子结构和大正方环形柱体腔的大柱体腔结构设置的金属片数量相同且一一对应连接，即中柱体腔子结构中的每个金属片外端和各自对应的大柱体腔结构的一个金属片外端连接。

3.根据权利要求1所述的一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构，其特征在于：所述的中正方环形柱体腔的谐振腔内为空气；大正方环形柱体腔的谐振腔内布置有空气和介质材料，介质材料的两侧分别和谐振腔两侧的金属片之间具有间隙，以谐振腔内沿周向方向的介质材料的厚度和谐振腔的厚度相除的比值作为介质布置参数，谐振腔内沿各处周向方向的介质布置参数相同，大正方环形柱体腔内的不同谐振腔的介质布置参数不同，且沿周向方向变化，TM波入射到的全向匹配隐身结构后进入谐振腔中，在每个谐振腔中走过的光学路径均等于工作波长的整数倍，进而使得在大正方环形柱体腔的外侧柱面处的TM波和在小正方形柱体腔的外侧柱面处的TM波的相位保持一致。

4.根据权利要求1所述的一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构，其特征在于：所述的小正方形柱体腔内的慢光速材料是由多个基本单元沿柱体方向与四边方向层叠延伸布置形成，每个基本单元是由从下到上层叠布置的下介质层、下金属层、中介质层、上金属层和上介质层构成，下金属层和上金属层上均布置由金属镂空结构。

5.根据权利要求4所述的一种基于非均匀法布里佩罗谐振腔阵列的全向匹配隐身结构，其特征在于：下金属层和上金属层按照田字形划分为四个区域，每个区域中均布置一个金属镂空结构，各个区域中布置的金属镂空结构形状尺寸相同，下金属层/上金属层的在同一层中相邻的两个区域的金属镂空结构以相位相差90度布置，下金属层和上金属层中上下相邻的两个区域的金属镂空结构也以相位相差90度布置。