[发明专利]一种外纹理手机盖的制备方法

权利要求书

1.一种外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1)注塑件成型：采用光学级透明塑料进行注塑成型；

S2)TPU薄膜压印：对TPU的表面进行UV压纹处理；

S3)贴合转印纹理：将注塑件表面淋涂硬化液，进行预固化后再与TPU薄膜压印的纹理压合，通过半干的硬化液将纹理转印至注塑件外表面；

S4)防爆膜贴合：将转印后的注塑件的内表面与防爆膜贴合；

S5)CNC加工：将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。

2.根据权利要求1所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，S1中注塑件成型包括光学级透明塑料熔融、上模、调试、合模、射胶填充、保压成型、冷却和开模。

3.根据权利要求2所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，所述光学级透明塑料包括聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯。

4.根据权利要求1所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，S1中注塑件成型的厚度为0.075-0.1mm。

5.根据权利要求1所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，S2中UV层的厚度为5-8um。

6.根据权利要求1所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，S4中防爆膜包括依次叠加的OCA光学胶、PET基材、UV胶层、电镀层和油墨层。

7.根据权利要求6所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，所述OCA光学胶的厚度为25-50um；所述PET基材的厚度为50um-100um；所述UV胶层包括改性丙烯酸酯胶层，其厚度为5-8um；所述油墨层厚度为15-30um。

8.根据权利要求6所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，所述电镀层厚度为30-50nm，其包括介质膜与金属膜，所述介质膜为二氧化硅、二氧化钛或五氧化三钛中的一种或多种，所述金属膜材质为Ag、Cu和Al中的一种。

9.根据权利要求1所述的外纹理手机盖的制备方法，其特征在于，S4中防爆膜贴合采用真空贴合机，真空度为-100mbar、贴合温度为25-40℃，贴合时间为20-40s。

10.一种外纹理手机盖，其特征在于，采用权利要求1至9任意一项所述的外纹理手机盖的制备方法制备而成。