[发明专利]压力标定系统在审
| 申请号： | 202110459919.7 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113390539A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 何英强;齐静波 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学;电子科技大学广东电子信息工程研究院 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 压力 标定 系统 | ||
1.一种压力标定系统，其特征在于，包括激光源、分光镜、二向色镜、照明光源、图像传感器以及光谱仪；
其中，所述激光源用于提供激光；
所述照明光源用于提供照明光；
所述二向色镜用于将所述激光反射至金刚石对顶砧样品空间内的待激发物上以激发出荧光；
所述分光镜用于将所述激光透射至所述待激发物上，以及将所述激光的反射光反射至所述图像传感器；
其中，所述二向色镜还用于将所述荧光透射至所述光谱仪。
2.根据权利要求1所述的压力标定系统，其特征在于，所述激光经由所述二向色镜反射至金刚石对顶砧样品空间内的待激发物上形成激发光路；所述荧光经由所述二向色镜透射至所述光谱仪形成探测光路；所述激光的反射光及所述照明光经由所述二向色镜以及所述分光镜反射至所述图像传感器形成成像光路。
3.根据权利要求2所述的压力标定系统，其特征在于，所述激发光路和所述成像光路至少部分重合。
4.根据权利要求1所述的压力标定系统，其特征在于，所述激光源的发射端至所述二向色镜之间依次设置有第一透镜、第二透镜和第三透镜，用于将所述激光进行扩束。
5.根据权利要求1所述的压力标定系统，其特征在于，所述照明光直接照射金刚石对顶砧的样品空间。
6.根据权利要求4所述的压力标定系统，其特征在于，所述分光镜位于所述第一透镜和第二透镜之间。
7.根据权利要求1所述的压力标定系统，其特征在于，所述分光镜和所述图像传感器之间设置有第四透镜，用于将所述分光镜反射的所述激光的反射光及所述照明光汇聚至所述图像传感器。
8.根据权利要求6所述的压力标定系统，其特征在于，所述二向色镜与所述待激发物之间还设置有物镜，所述物镜用于将扩束后的所述激光汇聚至所述待激发物。
9.根据权利要求8所述的压力标定系统，其特征在于，还包括若干反射镜，使至少部分所述成像光路位于所述激发光路的上方或下方。
10.根据权利要求9所述的压力标定系统，其特征在于，除去所述照明光源外，所述压力标定系统的其他部分均位于封装盒中，通过调整所述封装盒和/或所述金刚石对顶砧的位置，使所述待激发物位于所述物镜的焦点处。
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