[发明专利]一种均匀铺光框

权利要求书

1.一种均匀铺光框，其特征在于，包括投光件、上导光檐和下导光檐；

由上下设置并间隔一定距离的所述上导光檐和所述下导光檐构成横向铺光通道，并对接所述投光件；由至少包含两段铺光方向相对的所述横向铺光通道围成中间的聚光槽；所述投光件设置在所述聚光槽外围，使所述下导光檐至少有一部分位于所述投光件与所述聚光槽之间，形成檐状结构，所述投光件发出的光线经过与其对应的所述檐状结构上方并向所述聚光槽以及位于所述聚光槽下方的空间投射光线。

2.根据权利要求1所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述下导光檐设置在所述投光件下方，所述上导光檐设置在所述投光件上方，所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构全部面积；或者，

所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构的部分面积；

所述投光件发光经过所述上导光檐与所述下导光檐之间的所述横向铺光通道并向所述聚光槽以及其下方的空间投射光线；

所述聚光槽的形状为闭合结构；或者，所述聚光槽的形状为两个相对设置的所述横向铺光通道构成的开口结构；

所述闭合结构的所述聚光槽形状为矩形或者三角形或者圆形或者椭圆形或者多边形或者心形或者扇形。

3.根据权利要求2所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述上导光檐遮盖所述投光件正面的全部面积和部分面积两种面积中的一种面积，且不遮盖所述下导光檐的檐状结构；

所述下导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶檐；

所述上导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶檐；

所述上导光檐设置有镂空透光图案。

4.根据权利要求3所述的一种均匀铺光框，其特征在于，还包括底板，所述底板位于所述聚光槽的下方，所述檐状结构表面至少有一部分高于位于所述聚光槽纵向投影面积内的所述底板表面，所述向位于所述聚光槽下方空间投射的光线铺射在所述底板表面；

所述檐状结构靠近所述聚光槽一侧的外缘与所述投光件之间的距离不小于所述檐状结构正表面的最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离；

所述聚光槽下方的所述底板表面与所述檐状结构正表面最高处之间的纵向距离不小于所述檐状结构正表面最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离；

所述底板与所述檐状结构为一体结构；

与所述底板为一体结构的所述檐状结构为台阶状或凸起状。

5.根据权利要求4所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述投光件为具有散光特征的发光结构，具体为电发光器件或者电发光器件与透光材料组合的发光结构；

所述投光件和所述下导光檐为一体结构，即所述投光件自带所述下导光檐。

6.根据权利要求5所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述投光件侧向发光，发光方向朝向所述聚光槽，直接向所述聚光槽投射光线；或者，

所述投光件纵向发光，通过所述上导光檐背面和所述下导光檐正面两者中至少一个的反射和散射间接向所述聚光槽投射光线。

7.根据权利要求6所述的一种均匀铺光框，其特征在于，还包括画相框体，所述上导光檐和所述下导光檐以及所述投光件三者中至少一个设置在所述画相框体的正面框檐下；

所述画相框体和所述上导光檐和所述下导光檐三者中的至少两者为一体结构。

8.根据权利要求7所述的一种均匀铺光框，其特征在于，还包括画相作品，所述画相作品设置在所述底板表面；或者，

所述画相作品本身就是底板；

所述画相作品与所述聚光槽的纵向投影面积至少有交集；

所述画相作品为镜面或者墙面或者天花板或者绘画书法作品或者相片或者印刷品或者针织刺绣作品或者雕刻作品或者古董收藏作品或者带有发光图案的基板。