[发明专利]一种基于二维快速傅里叶变换的电子束曝光的邻近效应矫正方法有效

专利信息
申请号: 202110400952.2 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN112987514B 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 刘杰;姚文泽;徐宏成;赵浩杰;刘薇;侯程阳 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410082 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 二维 快速 傅里叶变换 电子束 曝光 邻近 效应 矫正 方法
【权利要求书】:

1.一种基于二维快速傅里叶变换的电子束曝光的邻近效应矫正方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S11,设置电子束曝光版图矩阵;

步骤S12,使用二维快速傅里叶变化方法计算电子束正向曝光模拟的能量沉积;

二维快速傅里叶变化方法(2D-FFT)对步骤S12中的电子束正向曝光模拟进行加速,能量沉积E表示为:

式中,fft(·)计算操作符表示为二维矩阵的快速傅里叶变化,ifft[·]计算操作符表示为二维矩阵的快速傅里叶逆变化;电子束曝光版图矩阵P(也可表示为P(x,y),x=1,2,…,M;y=1,2,…,N;M,N分别为矩阵的行、列数)需要曝光的像素区域设置为1,不需要曝光的像素区域设置为0;PSF(也可表示为PSF(x,y))是电子束在光刻胶中散射的点扩散函数矩阵向量;K表示电子束曝光剂量因子矩阵向量,且矩阵K、P和PSF的行、列均相同;

步骤S13,计算电子束曝光后的阈值显影图案强度;

计算电子束曝光后的阈值显影图案强度D(x,y)(x=1,2,…,M;y=1,2,…,N;M,N分别为矩阵的行、列数,也可表示为D),其计算方法为:

式中,Sigmoid函数中参数λ是函数坡度,τ是光刻胶显影阈值;

可选地,显影图案强度D可以通过以下计算方法得出:

式中,Heaviside函数中参数λ是函数坡度,τ是光刻胶显影阈值;

步骤S14,设置收敛精度,计算电子束曝光版图误差函数,判断是否收敛;

设置收敛精度ε,判断是否收敛,当版图迭代误差lossε时,执行步骤S15;当版图迭代误差loss ε时,得到矫正后的剂量结果,执行步骤S16;

计算电子束曝光版图误差函数loss(D),其计算方法为:

对应公式(3)可选地,计算电子束曝光版图误差函数loss(D),其计算方法为:

步骤S15,计算电子束曝光剂量因子矩阵向量梯度迭代直至收敛;

计算电子束曝光剂量因子矩阵向量梯度迭代,第n次迭代后电子束曝光剂量因子矩阵向量Kn计算方法为:

式中,是第n-1次迭代的电子束曝光版图误差函数对张量Kn-1求偏导,n1,且为整数,η为步进率;

步骤S16,将电子束曝光版图剂量矫正结果转化为可用于曝光的数据类型。

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