[发明专利]建筑物幕墙的创建方法及创建装置在审

专利信息
申请号: 202110371535.X 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN112948948A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 别雨璇;张群星;杨乐;沈莉莉;樊旭灿 申请(专利权)人: 广联达科技股份有限公司
主分类号: G06F30/13 分类号: G06F30/13;G06T17/20
代理公司: 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 代理人: 程超
地址: 100193 北京市海*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 建筑物 幕墙 创建 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,包括以下步骤:

基于初始参数创建原始幕墙,所述原始幕墙包括原始轮廓、与所述原始轮廓对应的原始网格线以及布置在所述原始网格线上的原始构件;其中,所述原始网格线和所述原始构件之间包含映射关系;

对所述原始网格线调整以得到更新网格线;其中,所述更新网格线相对于所述原始网格线产生了增量变化;

根据所述映射关系和所述增量变化,对所述原始构件进行调整以得到更新构件。

2.根据权利要求1所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,对所述原始网格线调整以得到更新网格线的步骤包括:

对所述原始网格线中的一根或多根原始网格线进行单独调整;以及

基于所述原始轮廓的变化对所述原始网格线进行整体调整。

3.根据权利要求2所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,所述基于所述原始轮廓的变化对所述原始网格线进行整体调整的步骤包括:

获取所述原始网格线中的横向网格线、纵向网格线和斜向网格线;

所述横向网格线的长度随着所述原始轮廓的长度变化而变化;

所述竖向网格线的数量或间距随着所述原始轮廓的长度变化而变化;

所述斜向网格线的端点随着所述原始轮廓的长度变化或高度变化而变化。

4.根据权利要求3所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,所述斜向网格线的端点随着所述原始轮廓的长度变化或高度变化而变化的步骤包括:

在所述斜向网格线的端点与所述纵向网格线相交的情况下,所述斜向网格线的垂直距离随时原始轮廓的长度变化而保持不变;

在所述斜向网格线的端点与所述横向网格线相交的情况下,所述斜向网格线的水平距离随时原始轮廓的高度变化而保持不变。

5.根据权利要求1所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,所述映射关系包括目标线段和第一构件的对应关系以及目标网格和第二构件的对应关系,所述根据所述映射关系和所述增量变化,对所述原始构件进行调整以得到更新构件的步骤包括:

当一个所述目标线段被拆分为多个目标子线段时,将所述第一构件对应地拆分为多个第一子构件;

当多个所述目标线段被合并为一个目标父线段时,将对应的多个第一构件更新为一个第一父构件,所述第一父构件与长度最长的所述目标线段对应的第一构件一致;

当一个所述目标网格被拆分为多个目标子网格时,将所述第二构件对应地拆分为多个第二子构件;

当多个所述目标网格被合并为一个目标父网格时,将对应的多个第二构件更新为一个第二父构件,所述第二父构件与面积最大的所述目标网格对应的第二构件一致。

6.根据权利要求1所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,所述幕墙包括多个,所述基于初始参数创建原始幕墙的步骤还包括:

在每两个幕墙相接处生成角框架,所述角框架包括框架高度、框架宽度和弯折角度,其中框架高度根据所述幕墙的高度确定,所述框架宽度根据预设参数确定,所述弯折角度根据所述两个幕墙之间的夹角确定。

7.根据权利要求6所述的建筑物幕墙的创建方法,其特征在于,当所述角框架与所述原始构件相接时,所述角框架的优先级高于与其相接的原始构件的优先级。

8.一种建筑物幕墙的创建装置,其特征在于,包括:

原始幕墙模块,适用于基于初始参数创建原始幕墙,所述原始幕墙包括原始轮廓、与所述原始轮廓对应的原始网格线以及布置在所述原始网格线上的原始构件;其中,所述原始网格线和所述原始构件之间包含映射关系;

网格线调整模块,适用于对所述原始网格线调整以得到更新网格线;其中,所述更新网格线相对于所述原始网格线产生了增量变化;

构件调整模块,适用于根据所述映射关系和所述增量变化,对所述原始构件进行调整以得到更新构件。

9.一种计算机设备,包括存储器、处理器以及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7任一项所述方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7任一项所述方法的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广联达科技股份有限公司,未经广联达科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110371535.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top