[发明专利]一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺有效

专利信息
申请号: 202110330748.8 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113088104B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 张怀胜 申请(专利权)人: 苏州达米昂科技有限公司
主分类号: C09C1/30 分类号: C09C1/30;C09C3/12;C09C3/10;C09C3/04
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 周瑜
地址: 215000 江苏省苏州市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 分散 纳米 二氧化硅 工艺
【权利要求书】:

1.一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S1:将硅溶胶水溶液、硅烷偶联剂、甲苯作为初始原料加入反应炉中,在90-110℃条件下进行搅拌反应,得到二氧化硅粒子中间溶液,使用超声波震荡装置使二氧化硅粒子中间溶液高频谐振形成微米级的雾滴;

步骤S2:所述雾滴经过输送管道通入反应炉,向所述反应炉中通入含有氮气的惰性气体,同时向所述反应炉中加入二甲基甲酰胺混合溶剂,含有二氧化硅粒子的雾滴在二甲基甲酰胺溶剂中反应得到二氧化硅球溶液;

步骤S3:将二氧化硅球溶液采用纳米级超声波发生器高频谐振形成的纳米级雾滴通过纳米级过滤膜进入离心机中,所述纳米级过滤膜具有一定延展性,且所述纳米级过滤膜由海藻凝胶制成;

在50-95℃条件下使用离心机分离脱水,在离心机分离脱水过程中,温度从50-55℃阶梯式升高至90-95℃;当纳米级雾滴完全脱水后,温度再从90-95℃阶梯式缓慢冷却至15-20℃,得到高分散均质纳米二氧化硅球粒子;

所述纳米级过滤膜上均匀分布有直径在50-80纳米范围内的纳米微孔,能够提高二氧化硅球粒子的高分散均质效果。

2.根据权利要求1所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述步骤S1中初始原料包括:硅溶胶水溶液55-80份、硅烷偶联剂60-95份、甲苯15-30份。

3.根据权利要求1所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述步骤S2中所述二甲基甲酰胺混合溶剂中包括:分子链非端基上带有炔基的共聚物。

4.根据权利要求3所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述分子链非端基上带有炔基的共聚物由马来酸酐、甲苯溶剂、氮气、丙炔醇、四氢呋喃以及引发剂在80℃条件下反应生成。

5.根据权利要求4所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述引发剂选择过氧化苯甲酰叔丁酯、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰中的其中一种或多种。

6.根据权利要求1所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述惰性气体包括:氦气、氪气以及氩气中的其中任意一种或多种。

7.根据权利要求6所述的一种制备高分散均质纳米二氧化硅球的工艺,其特征在于:所述氮气在惰性气体中的浓度在控制60-80%之间。

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