[发明专利]一种基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构在审

专利信息
申请号: 202110272976.4 申请日: 2021-03-14
公开(公告)号: CN113097006A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 葛国伟;程显;白青林;杜帅;李鑫;吕彦鹏 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: H01H33/662 分类号: H01H33/662;H01H33/664
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 450000 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 径向 多极 取向 磁场 调控 真空 灭弧室 结构
【权利要求书】:

1.一种基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构,其特征在于:包括动触头、静触头、4对N-S极磁铁、屏蔽筒。动静触头相对设置,成为放电结构,四对N-S磁极分别设置在放电结构的两侧,同时四对N-S磁极通过骨架连接在屏蔽罩内侧,屏蔽罩能够将永磁体覆盖。

2.根据权利要求1所述的基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构,其特征在于:所述的4对永磁体每个N-S磁极相邻放置并通过骨架固定,4对相邻放置使相邻的N-S磁极角度为45度。

3.根据权利要求1所述的基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构,其特征在于,所述静触头的两端分别为静触头上端盖连接段和静触头放电端,所述动触头的两端分别为动触头下端盖连接段和动触头放电端,4对磁极的位置不超过动触头放电端和静触头放电端。

4.根据权利要求1所述的基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构,其特征在于,所述的屏蔽罩采用铜材料制成。

5.一种基于径向多极取向磁场调控的真空灭弧室结构,其特征在于:灭弧结构采用如权利要求1-4中任意一项所述的基于径向多极取向磁场调控的无极性灭弧结构。

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