[发明专利]一种平滑微透镜结构表面的制备系统

权利要求书

1.一种平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，包括：

曝光光源，用于提供曝光光线，沿所述曝光光线照射方向顺次设置有匀光准直元件、DMD芯片、投影物镜以及三维精密平台，其中，

所述匀光准直元件用于将曝光光线处理为均匀光束；

所述DMD芯片用于将所述均匀光束反射至投影物镜；

所述投影物镜用于将所述均匀光束聚焦至三维精密平台的精准曝光位置，以在工件表面生成曝光图形；

其中，还包括连接至所述投影物镜的机械振动辅助机构，所述机械振动辅助机构驱动所述投影物镜产生正弦振动或余弦振动，以模糊DMD像素间隙，消除曝光图形的像素量化误差；

其中，所述机械振动辅助机构包括驱动杆、单向振动发生器以及正弦/余弦函数发生器，所述正弦/余弦函数发生器连接至所述单向振动发生器，所述驱动杆的一端连接至所述单向振动发生器的输出端，另一端连接至所述投影物镜；

机械振动辅助机构的振动方向在曝光图形坐标系的对角线上。

2.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，所述驱动杆的连接方式可以紧固件连接、粘接或焊接的任意一种。

3.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，所述曝光光源采用405纳米紫外光源。

4.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，还包括DMD控制器，所述DMD控制器与所述DMD芯片电性连接，所述DMD控制器控制所述DMD芯片，以控制曝光图形的生成。

5.根据权利要求4所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，还包括用于设计曝光图形的计算终端，所述计算终端与所述DMD控制器电性连接。

6.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，还包括与所述三维精密平台电性连接的平台控制器，所述平台控制器用于控制三维精密平台的精准曝光位置。

7.根据权利要求1所述的平滑微透镜结构表面的制备系统，其特征在于，所述DMD芯片的单个微镜尺寸为10.8微米或7.6微米。