[发明专利]辅助散射面板及其制作方法和显示装置

说明书

一种辅助散射面板及其制作方法和显示装置，制作方法包括以下步骤：提供衬底基板；在衬底基板上形成金属线路层；在金属线路层和衬底基板上形成第一钝化层；使用掩模板，在第一钝化层上制作第一光刻胶层；对第一钝化层进行第一次刻蚀，制作出透镜结构和凸起部；剥离第一光刻胶层；在第一钝化层上形成平坦化层；对第一钝化层进行第二次刻蚀，将金属线路层上方的第一钝化层去除，在刻蚀后凸起部仍然保留并暴露；在平坦化层上沉积整层的透明电极层，透明电极层顺沿平坦化层铺设至暴露的凸起部上，然后再铺设至金属线路层上并与金属线路层导电连接。该制作方法可避免出现底切问题，使透明电极层爬坡处平缓连接，降低透明电极层断裂的风险。

技术领域

本发明涉及屏幕显示技术领域，尤其涉及一种与显示面板搭配使用的辅助散射面板及其制作方法，以及具有所述辅助散射面板的显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD)能够显示高清、连续、细腻的画面，越来越受消费者青睐。

现有一种新型液晶显示技术，将两个液晶盒叠加并用于显示，其中一个液晶盒为显示面板，主要功能为显示画面，另一个液晶盒为辅助散射面板，其设有透镜结构，主要功能为散射光线。通过给散射面板内的上下电极通电，形成电势差控制液晶分子偏转，底部光源经过透镜结构和液晶分子后，增强显示区域的散射效果。

请参照图1a至图1f所示，针对辅助散射面板，现有的制作工艺流程包括：在衬底基板11表面制作出金属线路层12，金属线路层12位于外围区域；之后沉积钝化层13，使用掩模板，在钝化层13上制作光刻胶层14，光刻胶层14在曝光、显影之后形成多个光刻胶图案141、142、143、144，再通过干法刻蚀工艺去除部分钝化层13，即去除未被光刻胶图案141、142、143、144覆盖的部分钝化层13，在移除光刻胶层14之后在钝化层13上制作出透镜结构，透镜结构包含多个透镜131和位于相邻透镜131之间的凹部132，透镜结构所在范围对应显示面板的显示区域；再在钝化层13上制作平坦化层15，使透镜结构的上方平坦化；之后对平坦化层15进行曝光、显影制程，去除平坦化层15左侧部分。

后续步骤请参照图1g至1h所示，借助平坦化层15的遮挡，通过干法刻蚀工艺去除显示区域外未被平坦化层15遮挡的钝化层13残留，暴露出金属线路层12，由于刻蚀速率选择比的差异，钝化层13出现底切现象(参图中虚线框133所示，钝化层13缩进至位于平坦化层15下方)，之后在平坦化层15上制作整面的透明电极层16，透明电极层16同时覆盖金属线路层12和平坦化层15，但由于底切问题，导致透明电极层16在底切位置处容易发生断裂，如图1h所示，从外围区域传来的信号无法传输到平坦化层15上的透明电极层16，进而无法实现需要的显示效果。

现有的技术问题解决方式为：额外设计及采购一块掩模板(Msak)，在上述图1f之后，通过光刻和干法刻蚀工艺去除金属线路层12上方的钝化层13(即不再是借助平坦化层15的遮挡来去除金属线路层12上方的钝化层13)，但这样做需要额外设计及采购一块掩模板,增加了制作成本。

发明内容

本发明主要解决的问题在于，提供一种辅助散射面板的制作方法，在原有技术上变更钝化层的图形设计，对平坦化层边缘下方附近区域的钝化层不做刻蚀，使透明电极层爬坡处平缓连接，解决制作透明电极层时，平坦化层下方出现钝化层底切的现象，以避免透明电极层爬坡时发生断裂，并且无需额外设计及采购掩模板，节约成本。

本发明提供一种辅助散射面板的制作方法，包括以下步骤：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成金属线路层；

在所述金属线路层和所述衬底基板上形成第一钝化层；