[发明专利]清洗装置在审
| 申请号： | 202110240953.5 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113020035A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 邬良 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 岳丹丹 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 | ||
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：
旋转部，用于放置待清洗的晶圆，并带动所述晶圆旋转；
第一清洗部，用于对晶圆的表面进行清洗，所述第一清洗部包括：
第一喷杆，设置在所述晶圆的至少一侧，向所述晶圆的表面喷射清洗液；
第一清洗刷，设置在所述晶圆的与所述第一喷杆相同的一侧，通过与所述晶圆的摩擦接触对所述晶圆的表面进行清洗；
第二喷杆，设置在所述第一清洗刷的一侧，向所述第一清洗刷喷射清洗液，对所述第一清洗刷的表面进行清洗。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一喷杆包括至少两个，分别朝向所述晶圆的第一表面和第二表面。
3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第一清洗刷包括至少两个，分别与所述晶圆的第一表面和第二表面接触。
4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述第二喷杆包括至少两个，每个所述第二喷杆朝向一个所述第一清洗刷，以向所述第一清洗刷喷射清洗液。
5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，两个所述第一清洗刷在所述晶圆的厚度方向上间隔开以限定出清洗空间，所述清洗空间在所述晶圆的厚度方向上的宽度不小于所述晶圆的厚度。
6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述第一喷杆和所述第二喷杆分别包括多个喷嘴，用于向所述晶圆的表面和所述第一清洗刷喷射清洗液。
7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第二喷杆在所述第一清洗刷清洗所述晶圆时对所述第一清洗刷进行清洗。
8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述第一清洗刷在所述第一喷杆向所述晶圆的表面喷射清洗液时对所述晶圆的表面进行清洗。
9.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述第一喷杆沿所述晶圆的表面方向水平延伸，以使所述第一喷杆的多个喷嘴向所述晶圆的上部表面喷射清洗液。
10.根据权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，所述第一清洗刷位于所述第一喷杆的下方，所述第二喷杆位于所述第一喷杆与所述第一清洗刷之间，所述第一清洗刷和所述第二喷杆沿所述晶圆的表面方向水平延伸。
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