[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置

说明书

本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，其中，阵列基板的制备方法先形成覆盖第一区域和第二区域的半导体层，然后对半导体层进行图案化，以获得位于第一区域和第二区域的有源层，最后通过切割的方式去除位于功能部件区内的有源层，避免了通过刻蚀等工艺去除功能部件区内的有源层而对第一区域周围区域的有源层造成过刻蚀的现象，改善了第一区域的周围区域显示异常的问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，更具体地说，涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示面板的屏占比越来越高，向着真正的“全面屏”不断推进，在这个过程中，如何在保留前置摄像头和亮度传感器等光学器件的设置位置的同时，提升显示面板的屏占比成为亟待解决的问题。

目前有设计方案通过在正常显示区中设置光学器件设置区的方式实现在保留光学器件设置位置的同时，提升显示面板的屏占比的目的。

但是这种光学器件设置区的设置方式会导致光学器件设置区周围的显示区出现显示异常的问题，给显示面板的正常显示带来负面影响。

发明内容

为解决上述技术问题，本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，以解决第一区域周围显示异常的问题。

为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：

一种阵列基板的制备方法，阵列基板包括第一区域和第二区域，第一区域包括功能部件区和过渡区，过渡区至少半围绕功能部件区，第二区域至少半围绕过渡区；制备方法包括：

提供衬底基板，在衬底基板上形成半导体层，半导体层至少覆盖第一区域和第二区域；

对半导体层进行图案化，以获得位于第一区域和第二区域的有源层；

进行切割，以去除功能部件区内的有源层。

一种阵列基板，包括：

第一区域和第二区域，所述第一区域包括功能部件区和过渡区，所述过渡区至少半围绕所述功能部件区，所述第二区域至少半围绕所述过渡区；

衬底基板，位于所述衬底基板一侧的有源层；

第一凹槽，所述第一凹槽位于所述功能部件区且贯穿所述有源层，其中，所述第一凹槽是通过对设置有所述有源层的所述功能部件区切割形成。

一种显示面板，包括上述的阵列基板。

一种显示装置，包括功能部件和上述的显示面板；

所述功能部件在所述显示面板上的正投影与所述显示面板的阵列基板的功能部件区至少部分重合。

本申请实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，其中，阵列基板的制备方法先形成覆盖第一区域和第二区域的半导体层，然后对半导体层进行图案化，以获得位于第一区域和第二区域的有源层，最后通过切割的方式去除位于功能部件区内的有源层，避免了通过刻蚀等工艺去除功能部件区内的有源层而对第一区域周围区域的有源层造成过刻蚀的现象，改善了第一区域的周围区域显示异常的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法的流程示意图；

图2-图6为本申请实施例提供的一种阵列基板的制备流程示意图；

图7为本申请实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；