[发明专利]一种超低吸附移液吸头的表面处理方法

说明书

本发明涉及一种超低吸附移液吸头的表面处理方法，包括如下步骤：S1：将未经处理的移液吸头放置在等离子表面处理设备中进行表面清洗。S2：向等离子表面处理设备中补充第二气体，第二气体电离出正负电荷，对移液吸头表面进行疏水改性处理。S3：将移液吸头进行干燥。S4：利用含氟物质对经过干燥的移液吸头进行表面修饰，得到超低疏水性吸附移液吸头。本发明的有益效果是采用第一气体产生的等离子体对移液吸头进行表面清洗，等离子体使细胞培养皿表面的原有的化学键产生断裂，大大地激活其表面活性。再通过第二气体在等离子表面处理设备中电离出活性基团，在活化的材料表面发生化学反应，引入新的官能团，有效提高移液吸头的表面疏水性能。

技术领域

本发明属于医疗器械技术领域，具体涉及一种超低吸附移液吸头的表面处理方法。

背景技术

随着现代检验分析的迅猛发展，化学及生物学技术也要求越来越精确和简便。现有技术中，对液体样品的精确采样、移液、混匀等操作均是通过移液器进行的，吸头是跟移液器配套使用的耗材，移液器能够配合吸头且利用移液器内活塞的上下移动来实现液体的吸取和放液。现有的吸头包括0.1-1000μL等不同规格，目前，医疗吸头可用于任何分子生物学和基因学研究的应用，其能够在移液器和样品之间有效的形成保护，保证吸样和分样的安全性。现有技术中的一般吸头多为一次性吸头，且吸附性较高，疏水性不够，操作过程中存在样品残留浪费，移液不精确的情况。

因此，需要提供一种具有超疏水性低吸附的吸头，以减少吸附转移过程中样品的浪费，确保实验数据的精准性。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为了解决现有技术中存在的一次性吸头的吸附性较高，疏水性不够，操作过程中存在样品残留浪费，移液不精确的问题，本发明提供一种超低吸附移液吸头的表面处理方法。

(二)技术方案

为了达到上述目的，本发明采用的主要技术方案包括：

一种超低吸附移液吸头的表面处理方法，包括如下步骤：

S1：将未经处理的移液吸头放置在等离子表面处理设备中，通入第一气体，对移液吸头进行表面清洗；

S2：向等离子表面处理设备中补充第二气体，第二气体在等离子表面处理设备中电离出正负电荷，对移液吸头表面进行疏水改性处理；

S3：将经过疏水改性处理的移液吸头进行干燥；

S4：利用含氟物质对步骤S3经过干燥的移液吸头进行表面修饰，得到超低疏水性吸附移液吸头。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S1中，第一气体为空气；

所述步骤S2中，第二气体为氮气和二氧化碳的混合物。

如上所述的表面处理方法，所述氮气和二氧化碳的体积比为1：3。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S1和所述步骤S2中，空气纯净度大于等于10万级别。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S1和所述步骤S2中，等离子体表面处理设备中的温度为20-30℃，相对空气湿度为40％-70％。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S3中，将经过疏水处理的移液吸头放置在两涂两烤配备的烤箱中，同时采用红外线辐射和热风循环对移液吸头进行干燥。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S4中，含氟物质为含氟表面活性剂或含氟烷基。

如上所述的表面处理方法，所述步骤S1和所述步骤S2中，利用真空泵将等离子体表面设备抽真空，达到0.02-0.03mbar的真空度，在高频发生器作用下，吸入100-300sccm气体进行电离形成等离子体，排气量为350000-453883.1Mt，处理功率为800W，对移液吸头进行表面疏水性处理。